AIDC功耗飙升驱动液冷渗透,国产供应链加速突围
- 来源:中泰证券
- 发布时间:2026/05/29
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液冷行业专题报告系列1:AIDC景气爆发,液冷大势所趋.pdf
本文深入分析了AIDC(人工智能数据中心)景气爆发背景下液冷行业的发展趋势。报告指出,芯片功耗指数级跃升、PUE能效约束收紧以及TCO(总拥有成本)优势凸显,共同推动液冷进入规模部署期。冷板式液冷凭借高成熟度成为当前主流方案,同时算力平台升级带动冷板、CDU、UQD等核心部件技术工艺同步迭代,微通道、3D打印、金刚石铜材料及两相液冷等技术不断突破散热瓶颈。市场空间方面,英伟达GPU机柜代际升级带来单柜价值量显著提升,北美CSP自研ASIC芯片及国产算力集群加速标配液冷,共同打开千亿级市场天花板。供应链格局上,英伟达链主要由欧美及台资企业主导,但国内厂商通过直接对接、代工及收购等多元模式加速切入...
算力功耗激增与能效约束倒逼液冷规模化部署
随着人工智能数据中心(AIDC)算力需求的指数级增长,芯片单机功率密度快速提升,传统风冷散热方案已触及物理极限。英伟达等头部厂商的芯片功耗从数百瓦跃升至千瓦级别,对应机柜功率密度向兆瓦级发展,而风冷方案在40至60kW/Rack时已达散热瓶颈,液冷成为高功率场景的必然选择。同时,全球范围内对数据中心能效指标(PUE)的要求日益严格,国家及地方政策明确限制新建大型数据中心PUE值,液冷技术凭借高效的热传导特性,能有效降低制冷能耗,满足绿色低碳的合规性要求。从全生命周期成本(TCO)来看,液冷方案虽初期建设成本(Capex)较高,但通过大幅降低运营阶段的能耗支出(Opex),长期经济性优势显著,重塑了数据中心的成本竞争力。
冷板技术持续迭代,核心部件价值量提升
当前,单相冷板式液冷凭借成熟度高、兼容现有服务器架构等优势,成为工程部署的主流路线。随着算力平台向更高功率密度演进,液冷核心部件正经历技术升级。冷板端从传统流道向微通道、3D打印一体化成型及金刚石铜材料升级,以消除热阻、降低泄漏风险并提升换热效率;CDU(冷量分配单元)从单柜分布式向行级、机房级集中式演进,强化智能泵驱与极限温差换热能力;UQD(快接头)与Manifold(歧管)向高可靠、标准化及智能化模块升级。英伟达新一代架构全面转向全液冷设计,冷板与快接头用量翻倍,带动散热模组整体价值量显著上升,微通道冷板及两相液冷技术逐步进入商业验证阶段。
全球算力放量打开千亿市场空间,国产厂商多元切入
液冷市场空间由英伟达GPU、北美CSP自研ASIC芯片及国产算力集群共同驱动。英伟达机柜代际升级带来单柜价值量提升,叠加ASIC芯片集群标配液冷,全球液冷需求持续扩容。国内互联网巨头在算力扩容中加快液冷部署,渗透率快速提升。供应链格局方面,英伟达链主要由欧美及台资企业主导,但管控模式趋于灵活,国内厂商通过直接对接认证、代工模式及收购优质资产等方式加速渗透。同时,北美CSP在自研ASIC芯片供应链中,出于供应安全与成本考量,正积极引入国内液冷供应商,国内企业凭借性价比优势迎来切入海外算力供应链的重大机遇。
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