中科仪:全工艺覆盖干泵龙头,存储扩产驱动国产替代

  • 来源:申万宏源
  • 发布时间:2026/06/05
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中科仪-920186-唯一全工艺覆盖干式真空泵“小巨人”,同步存储扩产国产替代空间广阔.pdf

中科仪是国内唯一在集成电路先进制程及清洁、中等、苛刻工艺均实现批量应用的国产干泵企业,2023年获评国家级专精特新“小巨人”。公司业绩持续高增,2025年营收/归母/扣非净利润分别为12.91/8.44/1.03亿元,YoY+19.30%/+337.77%/+17.19%,其中归母净利高增主要系公司持有拓荆科技、中科信息股权,投资收益及公允价值变动高增。受益于国内晶圆厂扩产、半导体设备国产替代加速及核心零部件自主可控需求提升,公司2025年集成电路领域真空泵收入为7.62亿元,YoY+14.90%,已成为公司核心增长极。干式真空泵是半导体制造前道核心基础设备,覆盖晶圆传输、刻蚀、薄膜沉积、离子...

中科院体系真空装备“小巨人”,半导体干泵放量驱动业绩高增

中科仪是国内唯一在集成电路先进制程及清洁、中等、苛刻工艺均实现批量应用的国产干泵企业,2023年获评国家级专精特新“小巨人”。公司业绩持续高增,2025年营收/归母/扣非净利润分别为12.91/8.44/1.03亿元,YoY+19.30%/+337.77%/+17.19%,其中归母净利高增主要系公司持有拓荆科技、中科信息股权,投资收益及公允价值变动高增。受益于国内晶圆厂扩产、半导体设备国产替代加速及核心零部件自主可控需求提升,公司2025年集成电路领域真空泵收入为7.62亿元,YoY+14.90%,已成为公司核心增长极。

AI算力驱动半导体真空泵市场快速扩容,高端干泵国产替代空间广阔

干式真空泵是半导体制造前道核心基础设备,覆盖晶圆传输、刻蚀、薄膜沉积、离子注入等关键制程,集成电路制造主要工艺中约70%需要使用。受AI算力及存储升级需求拉动,国内晶圆厂及存储厂有望进入新一轮扩产周期,带动用泵数量提升;先进制程推进及NAND/DRAM工艺升级提升苛刻工艺占比,推动单线价值提升。根据“新增扩产+存量替换”双轮模型测算,我们预计26/27E国内半导体干式真空泵价格为11.00/11.05万元,中国半导体真空泵市场规模分别为63.4/74.3亿元。当前全球半导体真空泵市场CR5市占率达78.4%,Edwards、Ebara、Kashiyama、Pfeiffer等国际厂商仍占主导。公司作为目前国内极少数真正跨越前道“苛刻工况”深水区的稀缺标的,也是唯一在先进制程实现批量应用的国产企业,24年在国内半导体领域市占率稳步升至12.72%,且已实现清洁、中等、苛刻工艺全覆盖,部分产品关键指标与国际竞争对手处于同一水平,有望在国产替代加速背景下持续提升份额。

绑定头部客户打开订单空间,维保后市场贡献长期增量

公司深度导入长江存储、长鑫存储等头部晶圆厂、设备厂及泛半导体客户,并通过台积电、SK海力士等国际客户测试验证。半导体干泵验证周期长、工艺适配要求高,进入核心产线后客户粘性较强。随着核心客户进入新一轮产能扩张和工艺升级周期,干式真空泵需求有望持续提升,公司凭借既有导入基础和国产供应链优势,有望通过募投项目产能释放承接增量订单。同时,随着累计装机量提升,维修、维护及零部件更换需求有望持续增长;相较海外厂商,公司在本地化服务响应、备件供应周期和维保成本方面具备优势,维保后市场长坡厚雪,有望成为公司新增长极。

编辑:流星雨
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