半导体设备行业市场规模及下游应用占比情况分析:全球市场迈向1255亿美元新高,AI与汽车电子驱动多元增长
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- 发布时间:2025/08/29
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半导体设备零部件行业2024年&2025一季报总结:业绩有所分化,持续受益于国产设备放量+国产替代加速。订单放缓+研发投入影响短期业绩,龙头公司盈利持续亮眼。半导体设备零部件选取8家公司【新莱应材】【英杰电气】【正帆科技】【富创精密】【先锋精科】【珂玛科技】【华亚智能】【江丰电子】。1)收入端:2024&2025Q1半导体设备零部件板块合计营收193.64、42.15亿元,分别同比+33.70%、+16.51%,2024年收入明显提升主要受益于国产设备放量,2025Q1同比增速有所下滑主要系24Q4前道设备订单放缓,叠加零部件海外囤货。2)利润端:2024&2025Q1...
半导体设备作为集成电路和广泛应用的半导体微观器件产业的基石,随着微观器件的尺寸不断缩小,结构日益复杂,其重要性愈发凸显。这些精密设备涵盖了芯片制造的前道晶圆制造和后道封装测试环节,其中光刻、刻蚀和薄膜沉积三大核心设备共同构成了现代芯片制造的支柱。
半导体设备行业概况:精密制造的基石
半导体设备指用于制造各类半导体产品所用的生产设备,在半导体制造的工艺流程中扮演着十分重要的角色,是半导体产业链上游环节市场空间最广阔,战略价值最重要的一环。
以半导体设备为代表的半导体产业已经成为我国的战略性产业,是支撑我国高质量发展的战略方向,也是大国间科技竞争的战略制高点。
半导体设备的技术升级与半导体制造的工艺发展相辅相成。半导体设备的技术升级为半导体制造工艺创造了发展空间,而半导体制造工艺的改进是半导体设备实现技术突破的推动力。
半导体制造的步骤繁多且精细,半导体设备在产业链中的应用领域主要可分为两大类:前道晶圆制造和后道封装测试。其中,前道晶圆制造流程是芯片制造中最为核心的环节,涉及的主要设备包括热处理设备、光刻设备、涂胶显影/去胶设备、刻蚀设备、离子注入设备、薄膜沉积设备、清洗设备等。
半导体设备市场规模:全球增长强劲,中国引领发展
根据SEMI(国际半导体产业协会)最新的预测数据显示,2025年全球半导体制造设备销售额将同比增长7.4%至1,255亿美元,创下历史新高。
在先进逻辑、存储和技术转型带动下,2026年半导体制造设备销售额有望进一步提高至1,381亿美元,实现连续三年增长。
回顾2024年,全球半导体设备市场已经呈现出强劲增长态势。2024年全球半导体设备市场规模达到1192亿美元,同比增长11.3%。
随着AI应用对高性能计算和存储的需求持续提升,驱动了先进制程设备和先进封装设备的投资,行业增长动能充足。
晶圆制造设备(WFE)占据半导体设备市场的主导地位。在2024年创下1043亿美元销售额纪录后,晶圆厂设备领域(包括晶圆加工、晶圆厂设施和掩膜/掩模版设备)预计将在2025年增长6.2%,达到1108亿美元。
这一数据较SEMI 2024年底预测的1076亿美元有所上调,主要受代工厂和存储器应用设备销售增加的推动。
从地区分布来看,中国在产线建设需求和国产化设备要求带动下,半导体设备市场规模快速提升。2024年中国市场销售规模达到了437亿美元,市场占比为36.7%。
SEMI预计,到2026年,中国大陆、中国台湾和韩国将继续保持设备支出前三甲地位。中国大陆在预测期内将继续领跑所有地区,不过销售额预计将从2024年创纪录的495亿美元有所下降。
半导体设备竞争格局:国际巨头主导,中国企业突破
全球半导体设备市场呈现多元化竞争格局,但整体被少数几家头部企业垄断。目前,全球半导体设备厂商主要集中在美国、荷兰、日本等国家,全球半导体设备厂商营业收入前十中,包括美国3家、日本4家、荷兰2家、中国大陆1家。
阿斯麦(ASML)是全球唯一能生产极紫外光(EUV)光刻机的厂商,凭借光刻机的技术领先优势,营业收入排在全球第一。
美国在薄膜沉积、离子注入、量测等领域占据垄断地位,如应用材料在物理气相沉积(PVD)、化学机械抛光(CMP)、离子注入等方面的全球市场占有率较高,泛林在刻蚀、电镀设备领域占比较大,科磊在量检测领域有较高的市占率。
日本企业在涂胶显影、清洗设备方面具有较强优势,其中,东京电子在涂胶显影设备市占率达89%,迪恩士(DNS)的清洗设备市占率为40%。
中国半导体设备公司营收业绩高速增长,市场份额逐步提升。设备行业核心公司(包括北方华创、中微公司、盛美上海、拓荆科技等)2024年第一季度至第三季度营业总收入合计达到459亿元,同比增长34%。
归母净利润合计达到82.2亿元,同比增长25.1%。北方华创凭借在刻蚀、薄膜沉积设备等领域的突破,2024年营业收入大幅提升,首次进入全球半导体设备营收收入前十名,成为中国大陆唯一进入前十的设备企业。
半导体设备下游应用:AI与汽车电子成为新增长极
半导体设备的下游应用领域广泛,覆盖移动通信、数据中心、汽车电子、工业应用等多个行业。2025年,生成式AI芯片市场规模预计超1500亿美元,对芯片缺陷检测精度提出0.1μm以下的严苛要求。
这使得半导体检测设备市场迎来结构性变化,随着HBM(高带宽存储器)堆叠层数增加,光学检测设备需求激增,电子束检测设备在先进制程中的应用也越来越广泛。
汽车电子是半导体产品的另一个重要应用领域。随着汽车智能化和电动化的趋势,对半导体产品的需求日益增加,尤其是在车载系统和自动驾驶技术方面。
2025年汽车半导体市场规模预计达1160亿美元,可靠性测试设备,如高温高湿测试箱、振动台,以及车载传感器校准设备需求显著。
在先进封装领域,Chiplet、3D封装技术成为延续摩尔定律的关键。2025年全球先进封装设备市场规模预计达509亿美元,中国市场占比超30%。
随着HBM4量产,混合键合设备需求预计增长300%。像台积电CoWoS产线所采用的2.5D/3D封装设备更是市场增长主力。
后端设备领域预计将在2024年开始的强劲复苏基础上继续增长。继2024年同比增长20.3%后,2025年半导体测试设备销售额预计将进一步增长23.2%,达到创纪录的93亿美元。
2024年,封装设备销售额增长25.4%,2025年预计将再增长7.7%,达到54亿美元。
半导体设备技术发展:精密化与多元化并存
半导体设备技术正向更高精度、更复杂工艺和更广泛材料应用方向发展。光刻机是芯片制造的核心设备,能够将芯片图案投影到硅片上,实现微小结构的制造。
光刻机主要结构涵盖光源、照明系统、掩模台、掩模传输系统,投影光刻物镜、工件台、硅片传输系统等。2024年全球光刻机设备市场规模约为315亿美元,是市场占比最大的细分设备。
刻蚀设备作为半导体制造三大核心设备之一,其技术也在不断进步。刻蚀的目的是按照图纸切割衬底或衬底上的薄膜,就是用化学的、物理的或同时使用化学和物理的方法,有选择地把没有被抗蚀剂掩蔽的那一部分薄膜层除去,从而在薄膜上得到和抗蚀剂膜上完全一致的图形。
薄膜沉积设备按工艺原理可分为PVD(物理气相沉积)、CVD(化学气相沉积)和ALD(原子层沉积),用于在基材上沉积纳米级薄膜,配合蚀刻和抛光工艺,制造多层导电或绝缘层。
量检测设备在前道工艺中起着至关重要的作用,是提高芯片良率、降低制造成本、推进工艺迭代的重要环节。
过程控制设备包括应用于量测和检测设备,用于芯片生产过程中精度、缺陷等保障,并且协助优化设备运行,提升成品率。
随着碳化硅(SiC)、氮化镓(GaN) 等宽禁带材料在新能源汽车、数据中心的应用推广,第三代半导体材料加工设备需求日益增长。
2025年全球SiC功率器件市场规模预计突破63亿美元,70%以上应用于汽车领域。加工SiC晶圆需要高精度磨床、激光切割设备,对半导体设备提出了新的技术要求。
半导体设备国产化进程:从“可用”到“好用”的转变
中国半导体设备国产化进程显著加快。根据全球半导体观察及SEMI数据,目前中国大陆设备基本可以覆盖半导体制造流程的各阶段所需(除光刻机外),中国半导体设备的国产化比例从2021年的21%迅速提升至2023年的35%。
中国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高,在CMP、热处理、薄膜沉积上近几年国产化突破明显,而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备上,仍较为薄弱。
具体来看,目前去胶设备国产化率已超过80%,清洗设备50%-60%,刻蚀设备55%-65%,热处理设备30%-40%,CMP设备30%-40%,这些环节目前国产替代进展较快。
而PVD设备国产化率约10%-20%,CVD/ALD设备5%-10%,涂胶显影设备5%-10%,离子注入设备10%-20%,量/检测设备1%-10%,光刻设备0%-1%,这些环节目前国产化率仍较低,需要关注国产突破进程。
国产半导体设备公司正大力投入研发以追赶海外龙头。2019年14家核心公司合计研发费用为12.6亿元,研发费用率为10.8%,2023年研发费用达72.8亿元,费用率达14.3%。
2024年第一季度至第三季度合计研发费用为65.9亿元,费用率维持14.3%,表明国内厂商高度重视研发以实现产品突破。
设备厂商在手订单充足,合同负债保持较高增速。截至2024年第三季度末,设备板块主要公司合同负债合计为183.9亿元,环比持续增长,相较于2021年第四季度的98.7亿元,合同负债总计实现近乎翻倍增长,彰显订单充沛。
以上就是关于半导体设备行业市场规模及下游应用占比情况的分析。从数据来看,全球市场正迈向1255亿美元新高,中国已成为最大区域市场,占比超过36%。
未来随着AI、汽车电子和先进封装技术的推动,半导体设备行业将继续保持强劲增长势头,而国产化进程的加速将为国内企业带来更多机遇。
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