2022年中微公司业务布局分析 中微公司立足刻蚀设备和MOCVD设备

1. 中微公司：刻蚀设备具有全球竞争力，多维度拓展业务布局

1.1 立足刻蚀设备和 MOCVD 设备，获大基金二期加码

公司是国内领先的刻蚀设备和 MOCVD 设备生产商。公司于 2004 年成立，2019 年成为科创板首 批上市企业，为集成电路、LED 外延片、功率器件、MEMS 等半导体产品制造企业提供刻蚀设备、 MOCVD 设备及 VOC 设备等。其中，集成电路行业中的刻蚀设备和 LED 行业中的 MOCVD 设备 是公司当前主要的两大业务。在刻蚀设备方面，公司在先期开发了电容性等离子体刻蚀机 （CCP），近年来又开发了电感性等离子体刻蚀机（ICP），目前 CCP 刻蚀设备已在 5 纳米器件 上实现量产，并在 5 纳米以下器件的试生产上实现了突破性的进展，ICP 刻蚀机进入市场后也已 进入高速发展阶段。在 MOCVD 设备方面，公司的蓝光 LED 制造设备 Prismo D-Blue 和 Prismo A7 MOCVD 设备在氮化镓 LED 国际通用照明领域已占据领先地位，2021 年公司新发布的专为高 性能 miniLED 量产而设计的 Prismo UniMax™ MOCVD 设备，能够帮助客户在 miniLED 生产过程 中实现优异的波长均匀性、器件的稳定性和可靠性及合格率。

公司股权较为分散，无实际控制人。截止 2021 年底，公司第一大股东上海创投持有 15.64%的股 份，第二大股东巽鑫投资持有15.15%的股份，两者持股比例接近。国家大基金二期参与了公司在 2020 年 8 月启动的定增项目，目前持有公司 3.97%的股份。公司控股子公司中微汇链、中微惠创 分别在工业环保设备和互联网供应链等新业务拓展领域取得了良好的进展，此外，公司持有国内 薄膜沉积设备龙头公司拓荆科技 11.2%的股份。

公司打造了一支具有国际化优势的半导体设备研发和运营团队。公司创始团队及核心技术人员大 都有国际领先半导体设备公司的从业经验，在一定程度上理解竞争对手的企业文化和经营理念。 公司创始人、董事长及总经理尹志尧博士在半导体芯片和设备产业有 35 年行业经验，是 89 项美 国专利和 200 多项其他海内外专利的主要发明人，为国际等离子体刻蚀技术发展和产业化的重要 推动者。

1.2 业绩持续向好，未来成长可期

公司营业收入持续增长，刻蚀设备与 MOCVD 设备为主要收入来源。公司 2021 年快速增长，实 现营收 31.1 亿元，同比增长 37%。受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，公司刻蚀设 备营收增长较快。MOCVD 设备方面，由于氮化镓基 LED MOCVD 的主要市场——通用照明近年 来新增扩产较少，公司营收有所下降。因此公司刻蚀设备营收占比逐渐上升，超过 MOCVD 设备， 成为最大收入来源。

公司毛利率水平有所提升，归母净利润快速增长。2021 年公司刻蚀设备毛利率达到 44.3%， MOCVD 设备毛利率较去年同期有大幅提升，达到 33.8%。由于近年来毛利率更高的刻蚀设备在 营业收入中占比上升，公司总体毛利率水平有所提升。公司归母净利润一直保持高速增长，2021 年实现归母净利润 10.1 亿元，同比增长 105%。

公司毛利率水平有所提升，归母净利润快速增长。2021 年公司刻蚀设备毛利率达到 44.3%， MOCVD 设备毛利率较去年同期有大幅提升，达到 33.8%。由于近年来毛利率更高的刻蚀设备在 营业收入中占比上升，公司总体毛利率水平有所提升。公司归母净利润一直保持高速增长，2021 年实现归母净利润 10.1 亿元，同比增长 105%。

图：公司费用率呈下降趋势

1.3 加强人才建设，重视技术创新

公司实行全员持股激励制度，培养稳定的专业研发团队。作为科技创新型企业，自设立以来，公 司实施全员持股计划，遵循扁平化的激励原则，规范有效的全员持股激励制度将员工个人利益和 公司利益绑定在一起，大大提升了员工的积极性和创造性。通过股权激励，公司也吸引了大批海 外人才，员工来自美国、新加坡、日本和韩国等十多个国家。截止2021年底，公司员工硕博比例 近 50%。

公司高度重视研发投入与自主核心技术。公司自成立以来始终保持大额研发投入，2021 年公司研 发投入达 7.3 亿元，占营业收入的比例为 23.4%。公司研发人员数量由 2018 年的 240 人上涨至 2021 年的 415 人。

2. mini/micro LED 推动 MOCVD 需求提升

外延生长与芯片制造是 LED 产业链中的两大关键环节。LED 产业链上游包括衬底制作、外延生 长和芯片制造，封装和应用分别属于中游和下游。LED 衬底的主要功能是承载，是生产外延片的 主要原材料；外延生长是指在 LED 衬底上利用各种外延生长法形成半导体发光材料薄膜从而制成 外延片的过程；在芯片制造环节中，首先需要进行芯片结构和工艺设计，然后通过退火、光刻、 刻蚀、金属电极蒸发、合金化和介质膜等工序形成发光二极管结构，通过关键指标测试后再进行 磨片、切割、分选和包装；封装是指将外引线连接至芯片电极，形成 LED 器件。

MOCVD 设备是 LED 制造中最重要的设备。LED 产业链涉及的设备主要包括：衬底加工需要的单 晶炉、多线切割机；制造外延片需要的 MOCVD 设备；制造芯片需要的光刻、刻蚀、清洗、检测 设备；封装需要的贴片机、固晶机、焊线台和灌胶机等。与集成电路在多种核心设备间循环的制 造工艺不同，LED 外延片制备主要通过 MOCVD 单种设备实现。MOCVD 设备采购金额一般占 LED 生产线总投入的一半以上，因此其设备数量成为衡量 LED 制造商产能的直观指标。以聚灿光 电为例，2016 年其 MOCVD 设备价值在主要生产设备总价值中的占比达 67%。

MOCVD（金属有机化学气相沉积）技术主要用于制备半导体光电子、微电子器件领域的各种 IIIV 族化合物（GaAs、 GaN)和 II-VI 族化合物（ZnSe）半导体单晶材料。目前，在化合物半导体 量子阱、超晶格和异质结等低维结构的制备中，MOCVD 越来越成为主要手段，并在化合物半导 体 LED、激光器、高频电子器件和太阳电池等领域具有规模化生产的能力。采用 MOCVD 技术进 行外延生长的过程较为复杂，一般可概括为：载气（主要采用 H2，也可采用 N2）携带反应源材 料（其流量被精确控制）输运至反应室，到达加热的衬底表面后发生反应，生长出外延层，反应 后残留的尾气经过尾气处理系统处理后排出反应室。

2.1 mini/microLED 是显示技术的升级方向

海兹定律推动下，LED 技术不断升级。类似于半导体行业的摩尔定律，LED 行业也存在着海兹定 律，即：LED 产业每 18-24 个月亮度提升 1 倍，每 10 年输出流明提升 20 倍、成本降至原来的 1/10。在海兹定律驱动下，LED 的升级路径沿着成本下降、尺寸缩小以及发光效率提升的方向演 进。随着 LED 照明技术达到成熟阶段，mini/micro LED 将接棒蓄力，引领下一代技术发展。

microLED 是显示技术的未来发展方向，miniLED 成为当下过渡到 microLED 的最优方案。小间 距 LED 显示具有无拼缝、显示效果好、使用寿命长等优势，且近年来成本下降较快，形成对 LCD 与 DLP 替代的趋势。miniLED 是小间距 LED 的进一步延伸，应用于直接显示和背光两大场景。 在直接显示领域，miniLED 作为小间距显示屏的升级产品，提升可靠性和像素密度，其对应的 LED 芯片尺寸在 0.08-0.20mm，可以用于 RGB 显示屏；在背光领域，采用 miniLED 背光技术的 LCD 显示屏，在亮度、对比度、色彩还原等方面远优于普通 LED 做背光的 LCD 显示屏。microLED 显示屏是巨量微型 LED 单元组成的 RGB 显示阵列，像素密度远高于现有显示技术（可 达 1500PPI 以上），而且寿命比有机材料制成的 OLED 和 LCD 更长，耗电低，目前在芯片、巨量 转移、 驱动电路等各个环节均处于研发阶段。虽然 microLED 是最佳显示技术方案，但仍处于技 术攻关阶段，miniLED 能在 LCD 上直接改进，技术更加成熟。

传统照明市场成长空间有限，新型 mini/microLED 应用成为突破点。目前传统 LED 照明领域的 增长速度逐步放缓，利润空间短期难以回到之前的水平，技术变革带来的产品结构优化升级成为 企业提升盈利能力的主要途径。miniLED 技术成熟、量产可行，主要在中高端液晶显示屏背光、 LED 显示得到大规模应用。随着超高清视频产业时代到来，电视向大屏化、高清化、宽色域等方 向发展，miniLED 技术被加以应用。除电视市场之外，miniLED 背光显示将以具备的亮度高、更 节能、使用寿命更长等优势，在平板电脑、笔记本电脑、 Pad 和车载屏幕等显示领域也将被广泛 应用，打开新的成长空间。

下游企业增加在新兴领域的布局，拉动 MOCVD 设备新需求。2019 年以来，苹果、小米、TCL、 海信、华硕、群创、友达、京东方等知名厂商密集发布了应用 miniLED 技术的电视、VR 和车载显示等产品，这将带动上游厂商增加在 miniLED 领域的生产支出，从而对 MOCVD 设备的需求会 大幅提升。

深紫外 LED 亦是未来 LED 应用的重点方向。深紫外 LED（UVC LED）指的是发光中心波长短于 300nm 的 LED，常用于消毒杀菌领域。一方面，由于汞对人类社会和环境的影响，从 2020 年起 主要用于民用和工业领域消毒杀菌的汞灯被国际《水俣公约》限制使用，将逐步退出市场。另一 方面，受新冠疫情影响，大众杀菌、消毒意识明显上升。在这些因素推动下，深紫外 LED 技术有 望作为健康产品进入人们的生活，未来在空气、饮用水、餐具、衣物等日常杀菌/净化市场有着巨 大机遇。

2.2 紧随 LED 前沿，MOCVD 设备竞争力强

顺应行业发展趋势，不断推出新型 MOCVD 设备。公司从 2010 年开始开发用于 LED 外延片加工 中最关键的设备——MOCVD 设备。早期公司推出的 Prismo D-BLUE 和 Prismo A7 设备用于蓝绿 光 LED、功率器件等加工，已在氮化镓 LED 国际通用照明领域已占据领先地位。2020 年，公司 推出应用于深紫外 LED 外延片生产的 Prismo HiT3™设备，已在行业领先客户端进行生产验证并 获得重复订单。2021 年公司发布了专为高性能 miniLED 量产而设计的 Prismo UniMax™设备，已 收到来自国内领先客户的订单，公司正在与更多客户合作进行设备评估。此外，制造 microLED 等应用的新型 MOCVD 设备也正在开发中。

公司是少数成功实现国产商用 MOCVD 设备的国内厂商，打破国外公司的垄断格局。2016 年以 前国内外的 MOCVD 设备行业的参与者长期为维易科、爱思强等欧美公司，为突破该市场状况， 国内曾有数十家企业及研究单位进行 MOCVD 设备的开发。由于极高的技术壁垒，仅以公司为代 表的少数企业成功研制出国产商业 MOCVD 设备。当前公司设备已应用于三安光电、华灿光电和 乾照光电等主流 LED 厂商产线，打破了国外公司的垄断局面。根据 IHS Markit 的统计，2018 年 公司的 MOCVD 占据全球氮化镓基 LED 用 MOCVD 新增市场的 41%，尤其在下半年，这一比重 超过了 60%。

图：氮化镓基 LED MOCVD 供应商各季节市场份额变化情况

3. 中微公司积极拓展业务领域，打造平台化公司

公司持续践行三维发展战略，并兼顾外延性发展。公司将深耕集成电路关键设备领域、扩展在泛 半导体关键设备领域应用并探索其他新兴领域的机会，多维发展将帮助公司更好地抵御设备行业 周期性的影响。在聚焦核心业务集成电路设备的同时，公司积极探索布局包括健康领域在内的新 业绩增长点，子公司中微惠创和中微汇链分别在工业环保设备、互联网供应链领域取得了卓有成 效的进展。

内生发展方面，外延生长及化学沉积薄膜设备市场约 130 亿美元，公司已组建团队开发 EPI 和 LPCVD 设备，通过 MOCVD-EPI-LPCVD-ALD 的路径发展，将与拓荆科技配合覆盖相关 CVD 领 域。其中，EPI 设备主要聚焦于 Foundry Logic Device，主要应用是 Si 和 Si/Ge EPI；LPCVD 设 备主要聚焦于 Memory Device，主要应用是 W、WN 和 TiN 等。外延布局方面，公司已投资睿励 仪器（检测）、拓荆科技（薄膜沉积）、理想万里晖（太阳能电池）和 SOLAYER（欧美光学镀膜）， 并积极探索其他合资与合作机会。

公司未来将通过内生外延的方式扩大产品和市场覆盖，推动自身健康发展。公司在 2020 年启动 了定增项目，募集资金拟在上海临港新片区建设中微临港总部和研发中心、中微临港产业化基地， 在南昌高新区建设中微南昌产业化基地。上海临港新片区和南昌高新区均具有明显的产业化集群 优势，公司本次投资的实施将有助于公司抓住区域发展协同机遇，进一步做大做强公司主营业务。 此外，部分募集资金用作科技储备资金，满足与其他厂商协作开发产品和适时的兼并收购资金需 求。

（本文仅供参考，不代表我们的任何投资建议。如需使用相关信息，请参阅报告原文。）