中微公司研究报告：刻蚀设备国产替代领军者，内生外延驱动稳健成长 .pdf

中微公司研究报告：刻蚀设备国产替代领军者，内生外延驱动稳健成长。公司是国内领先的半导体刻蚀设备及 MOCVD 设备制造商，逐步向薄膜沉积设 备、Epi 设备延展。随着国产替代推进及公司产品力提升，公司营收利润快速增 长，2022 年公司营业收入 47.4 亿元，同比增长 53%，2017-2022 年 CAGR 为 37%；实现归母净利润 11.7 亿元，同比增长 16%，2017-2022 年 CAGR 为 108%。产品端，公司刻蚀设备已广泛应用于 65 nm 到 5 nm 逻辑和 64 层、128 层 3D NAND 量产线；MOCVD 设备在全球氮化镓基 LED 设备占据龙头地位， 二代 Mini LED 、Micro LED、功率器件设备积极研发推进；薄膜沉积设备方 面，公司已推出用于钨沉积的 CVD 和 ALD 设备，并积极推进硅锗外延 EPI 设备 研发。2022 年公司新签订单 63.2 亿元，同比增加 53%。产品线的不断延展，推 进公司市场空间持续拓展。

自主可控驱动国产化率提升，刻蚀设备龙头引领先进制程突破。 刻蚀设备是集成电路三大核心设备之一，2022 年全球市场 220 亿美元，占总设 备市场的 22%。我们预计 2022-2025 年中国大陆刻蚀设备市场空间平均约 377 亿 元/年。存储器件 3D 化、逻辑芯片制程缩小，刻蚀设备需求量及要求大幅提升。 公司在刻蚀设备领域深耕多年，CCP 设备行业领先，ICP 设备持续突破。 CCP 设备方面，公司市占率不断提升，2022 年付运 CCP 刻蚀设备 475 腔，同比增长 59%。公司 CCP 产品已覆盖 28nm 及以上的绝大部分和 28nm 以下的大部分刻 蚀。逻辑端针对 28nm 及以下大马士革刻蚀已经入验证阶段，存储端高深宽比刻 蚀已在客户端验证具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的能力。截至 2023 年二季度，公 司累计生产付运 2500 个 CCP 刻蚀反应台。ICP 设备方面，公司 Primo nanova 系 列产品自推出以来市场迅速扩大，截至 2022 年底出货量已达到 297 台，同时 ICP 设备产品种类不断丰富，分别推出 VE、UE、LUX 用于高深宽比结构刻蚀和 高均匀性刻蚀。

立足优势蓝光 LED 领域，发力高端 LED、功率器件市场。 MOCVD 常用于制造 LED、激光器、功率器件、射频器件等，其中 LED 为第一 大应用。 Mini/Micro LED 产业化与功率器件市场的发展带动 MOCVD 设备需求 提升。公司氮化镓基 LED 设备处于全球龙头地位。2021 年针对 Mini LED 市场 推出量产 MOCVD 设备， 截至 2022 年底累计出货量已超 120 腔。在功率器件市 场方面，公司已推出氮化镓功率器件 MOCVD 设备并获得先进客户重复订单， 目前碳化硅、二代氮化硅功率器件的设备积极研发中。