中微公司研究报告：刻蚀设备领军企业，内生外延打造平台型公司.pdf
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- 时间：2024/12/31
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中微公司研究报告：刻蚀设备领军企业，内生外延打造平台型公司。刻蚀设备领军企业，多领域布局打开成长空间。中微公司主营刻蚀、薄膜沉积等半导体设备，下游涵盖集成电路、先进封装、 LED外延片等领域，其半导体设备已被广泛应用于国际一线客户从65nm到5nm及更先进的芯片加工工艺。
CCP刻蚀国产龙头，ICP刻蚀稳步突破。公司已对28nm以上的绝大部分CCP刻蚀应用和28nm及以下的大部分CCP刻蚀 应用形成较为全面的覆盖，ICP刻蚀设备也已在逻辑、DRAM、3D NAND、功率和电源管理以及微电机系统等芯片和器件 的60多条客户的生产线上量产，并持续进行更多刻蚀应用的验证。
薄膜沉积设备顺利推进，量测检测设备持续布局。根据公司2023年报，公司近两年开发的LPCVD及ALD设备已有四款进入 市场，其他十多种导体薄膜沉积设备也将陆续进入市场；此外公司通过投资布局了光学检测设备板块，并计划开发电子束检 测设备，未来将不断扩大对多种检测设备的覆盖。
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