薄膜沉积设备_薄膜沉积设备行业在线文章

2025年拓荆科技研究报告：薄膜沉积设备国内领军者，混合键合设备第二成长曲线

2025/01/20
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国海证券

薄膜沉积设备国内领跑者，前瞻布局混合键合设备。2010年公司成立，2011年公司首台12英寸PECVD出厂到中芯国际验证，2013年通过中芯国际产品线测试，2016年公司首台12英寸ALD出厂到客户端，2019年公司SACVD研制成功并出厂到客户端，2022年公司HybridBonding设备出厂，同年公司成功登陆科创板。

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2025年北方华创研究报告：刻蚀和薄膜沉积设备领域优势突出，打造平台型设备龙头

2025/01/02
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东方证券

北方华创成立于2001年9月，是目前国内集成电路高端工艺装备的领军企业。立足半导体基础产品领域，深耕半导体装备、真空及锂电装备和精密电子元器件等业务领域，产品广泛应用于集成电路、先进封装、半导体照明、第三代半导体、新能源光伏、新型显示、真空热处理、新能源锂电等领域，现有六大研发生产基地，营销服务体系覆盖欧、美、亚等全球主要国家和地区，致力于成为半导体基础产品领域值得信赖的引领者。

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2024年拓荆科技研究报告：薄膜沉积设备领军者，技术创新步伐加快

2024/10/08
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华福证券

薄膜沉积设备国产化领军者，专注于薄膜沉积设备的研发和产业化应用。

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2024年拓荆科技研究报告：国产薄膜沉积设备龙头，混合键合设备新军

2024/08/29
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方正证券

国产薄膜沉积设备领跑者，进军混合键合设备。拓荆科技成立于2010年4月，于2022年科创板上市，主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

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2024年拓荆科技研究报告：半导体薄膜沉积设备国产领军者，产品体系持续完善打开成长空间

2024/03/01
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华西证券

拓荆科技成立于2010年，专业从事半导体薄膜沉积设备，引领进口替代浪潮。公司曾承担多项国家科技重大专项&省部级重大科研项目，曾三次荣获“中国半导体设备五强企业”，产品已适配国内最先进的28/14nm逻辑芯片、19/17nmDRAM芯片和64/128层3DNANDFLASH晶圆制造产线，尤其在PECVD和SACVD领域，公司是本土唯一实现产业化应用的供应商。

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2024年拓荆科技研究报告：薄膜沉积设备领军者，业绩优异长期增长确定性强

2024/02/04
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山西证券

深耕半导体专用设备领域，聚焦薄膜沉积设备研发和产业化应用。公司专注于半导体薄膜沉积设备业务，自2010年成立以来始终坚持自主研发，先后多次承担国家重大科技专项/课题。

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2023年拓荆科技研究报告：国内半导体薄膜沉积设备龙头，身处快速成长期

2023/11/21
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平安证券

拓荆科技成立于2010年，地点位于沈阳，2022年4月在科创板上市。公司主要从事高端半导体薄膜沉积设备的研发、生产、销售与技术服务，主要产品包括等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）、原子层沉积设备（ALD）和次常压化学气相沉积设备（SACVD）等产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

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2023年拓荆科技研究报告深耕半导体薄膜沉积设备赛道

2023/06/30
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西部证券

2023年拓荆科技研究报告，深耕半导体薄膜沉积设备赛道。拓荆科技成立于2010年，是国内一家专注于高端半导体设备研发、生产、销售和技术服务的高科技企业，目前已形成PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD等薄膜设备产品系列，该产品系列已广泛应用于国内集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线。

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2022年拓荆科技研究报告拓荆科技国产替代薄膜沉积设备迎来发展机遇

2022/07/20
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国联证券

2022年拓荆科技研究报告，拓荆科技国产替代薄膜沉积设备迎来发展机遇。薄膜沉积是芯片制造工艺的核心工艺环节，薄膜沉积设备是半导体制造前道工艺中的三大核心设备之一。半导体制造工艺可以简化为加材料、图形化和减材料三大步骤，而芯片成品需要经过数百次三大步骤的循环。

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2022年拓荆科技（688072）研究报告拓荆科技受益半导体引领薄膜沉积设备国产化

2022/07/18
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东方证券

2022年拓荆科技（688072）研究报告，拓荆科技受益半导体引领薄膜沉积设备国产化。拓荆科技前身是2010年成立的沈阳拓荆科技有限公司，2015年获大基金入股，2021年整体变更设立为股份有限公司并在科创板申请上市。公司自成立至今一直专注于半导体薄膜沉积设备业务，主要产品包括PECVD设备、ALD设备和SACVD设备三个系列。

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2022年拓荆科技（688072）研究报告拓荆科技是国产薄膜沉积设备龙头

2022/07/14
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国盛证券

2022年拓荆科技（688072）研究报告，拓荆科技是国产薄膜沉积设备龙头。拓荆科技由海外专家团队与中科院所属企业于2010年4月发起成立，是一家从事高端半导体专用设备研发生产的企业。公司于2022年4月在科创板上市。公司致力于高端半导体设备的研发生产，主要产品为半导体薄膜沉积设备，是芯片制造三大设备之一。

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2022年半导体行业之薄膜沉积设备专题分析 2021年国内薄膜沉积设备市场空间超过55亿美元

2022/06/30
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浙商证券

2022年半导体行业之薄膜沉积设备专题分析，2021年国内薄膜沉积设备市场空间超过55亿美元。薄膜沉积工艺是半导体制造中的关键工艺。半导体行业中，薄膜常用于产生导电层或绝缘层、产生减反射膜提高吸光率、临时阻挡刻蚀等作用，由于薄膜是芯片结构的功能材料层，在芯片完成制造、封测等工序后会留存在芯片中，薄膜的技术参数直接影响芯片性能。

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2022年拓荆科技产业细分及业务布局分析拓荆科技差异化布局薄膜沉积设备

2022/06/25
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开源证券

2022年拓荆科技产业细分及业务布局分析，拓荆科技差异化布局薄膜沉积设备。公司聚焦半导体薄膜沉积设备的生产和研发，主要产品有等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列。

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2022年薄膜沉积设备行业市场现状及发展路径分析国内薄膜沉积设备厂商将迎来发展机遇

2022/06/25
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开源证券

2022年薄膜沉积设备行业市场现状及发展路径分析，国内薄膜沉积设备厂商将迎来发展机遇。薄膜沉积是半导体制造过程中构造晶体管的关键步骤之一。薄膜沉积是指在硅片衬底上沉积一层待处理的薄膜材料，逐层堆叠薄膜形成电路结构，包括半导体、介质、金属/金属化合物三大类。

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2022年拓荆科技主营业务及竞争优势分析拓荆科技引领薄膜沉积设备进口替代业绩持续高速增长

2022/06/23
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东吴证券

2022年拓荆科技主营业务及竞争优势分析，拓荆科技引领薄膜沉积设备进口替代业绩持续高速增长。荆科技成立于2010年，专业从事半导体薄膜沉积设备，其中PECVD、SACVD成功打破海外垄断，引领核心半导体设备进口替代。公司曾承担多项国家科技重大专项&省部级重大科研项目，曾三次荣获“中国半导体设备五强企业”。

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