拓荆科技（688072）研究报告：国产薄膜沉积设备产业化先锋，布局PECVD+ALD+SACVD.pdf
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- 时间：2022/04/22
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拓荆科技（688072）研究报告：国产薄膜沉积设备产业化先锋，布局PECVD+ALD+SACVD。PECVD+SACVD+ALD，国产薄膜沉积产业化先锋。公司核心团队具备诺发/爱思强/Intel 等大厂技术背景，为多项PECVD/ALD/SACVD国家专项牵头人。大基金/中微/国投等资本 支持下，公司是国内唯一一家产业化应用PECVD、SACVD设备的厂商，具备不可替代性。
客户覆盖核心晶圆厂，持续受益扩产成就规模化成长。2022年往后看，内资晶圆厂12吋潜 在扩产产能至少155万片/月，支撑3-4年高景气扩产周期。公司客户中芯国际/长存/华虹/晶 合/粤芯/长鑫，覆盖下游核心晶圆厂，未来将持续受益下游扩产实现高速规模化成长。
贸易争端威胁供应链安全，国产替代势在必行。全球半导体设备市场呈现日、欧、美供应商 垄断态势，中国大陆半导体设备综合自给率很低。大国博弈背景下，保证产业供应链安全迫 在眉睫；国产化下国内设备厂商厚积薄发，高速放量。
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