中微公司深度解析：国芯之光，刻蚀设备领跑者.pdf
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- 时间：2020/11/11
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公司介质刻蚀设备国内最先进，并达到国际一线水准，产品已进入世界领 先晶圆制造企业5nm产线。硅刻蚀、金属刻蚀已进入客户端验证阶段。 MOCVD设备已达到国际水平，且价格优势明显。未来有望成为国际领先的 半导体设备开发商。
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