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半导体产业链专题研究报告:光刻胶行业深度研究.pdf
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- 2021/06/25
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- 方正证券
光刻胶又称光致抗蚀剂,是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线等照射或辐射,其溶解度发生变化的耐蚀剂刻薄膜材料。光刻胶目前被广泛用于光电信息产业的微细图形线路加工制作,约占IC制造材料总成本的4%,是重要的半导体材料。
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光刻胶行业深度研究:半导体材料皇冠上的明珠,迎来国产化机遇.pdf
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- 2021/05/31
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光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠:全球半导体技术持续进步背后是光刻工艺持续迭代驱动的摩尔定律,缩短曝光波长主要是通过在光刻机等核心设备和光刻胶等核心材料的不断进步来实现。光刻胶及其配套化学品占半导体材料产值12%,行业技术壁垒和客户壁垒高,目前主要被日本、韩国和欧美国家垄断,特别是ArF浸润式(28nm及以下)以及EUV等关键节点。
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TrendBank-光刻胶产业研究报告.pdf
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- 2020/12/21
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光刻胶(Photoresist简称PR)又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的有机混合物,用于微细图形加工光刻胶的基本组分:树脂、溶剂、光引发剂、单体及其他助剂;
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半导体光刻胶行业专题报告:国产半导体光刻胶迎发展良机.pdf
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- 2020/11/18
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半导体光刻胶是半导体光刻工艺的核心材料,决定了半导体图形工艺的精密程度和良率。作为高精尖的半导体制造核心材料,由于技术壁垒和客户壁垒高,全球半导体光刻胶市场集中度高,市场被美日公司长期垄断。国内在半导体光刻胶领域自给率低,高端ArF光刻胶则完全依赖进口,中美贸易摩擦下,出于半导体产业安全的考虑,光刻胶自主可控意义凸显。
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日本JSR,全球ArF光刻胶龙头.pdf
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- 2020/11/04
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日本JSR,全球ArF光刻胶龙头
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半导体光刻胶深度报告:图像转移媒介,关注进口替代进程.pdf
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- 2020/10/25
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半导体光刻胶深度报告:图像转移媒介,关注进口替代进程
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光刻胶生产建设项目可行性研究报告.doc
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- 2020/08/16
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光刻胶生产建设项目可行性研究报告
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高端光刻胶生产建设项目可行性研究报告.doc
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高端光刻胶生产建设项目可行性研究报告
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半导体光刻胶生产建设项目可行性研究报告.doc
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半导体光刻胶生产建设项目可行性研究报告
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紫外固化光刻胶生产建设项目可行性研究报告.doc
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- 2020/07/21
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紫外固化光刻胶生产建设项目可行性研究报告
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光刻胶专题报告:以史为鉴,看半导体材料皇冠上的明珠.pdf
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- 2020/05/18
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化学放大光刻胶:来自化学家的魔法1980s光刻技术发展到深紫外光刻时,光源强度严重制约了光刻机的晶圆处理效率。为解决这一问题,IBM的化学工程师开发了划时代的化学放大光刻胶。然而IBM突破KrF光刻胶时半导体工业尚未发展到需使用KrF光刻的时代,KrF胶成了"早产儿”,直至1995-1997年半导体工艺进展至025um节点时KrF胶才迎来了高速增长时代ArF光刻胶雏形也源自IBM,但最终也由日本厂商发扬光大。
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半导体材料行业专题报告:光刻胶,高精度光刻关键材料.pdf
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- 2020/05/04
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光刻胶是高精度光刻的关键,起到产业链支撑作用光刻胶分三个细分领域:半导体光刻胶、LCD光刻胶、PCB光刻胶,其中半导体光刻胶代表了最先进的光刻胶技术。在半导体制造中光刻胶及其配套设备起到支撑产业链的关键作用,光刻胶的质量直接影响到半导体集成电路/器件的制程精度。为了保证高精度光刻的质量,如7/5nmlC制程,好的光刻胶必须满足高分辨度、高敏感度、高对比度等技术指标。因此,光刻胶是支撑产业链的关键材料
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半导体材料专题报告:光刻胶行业投资宝典.pdf
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- 2020/04/14
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光刻胶又称光致抗蚀剂,是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应,经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景,这里的待加工基片可以是集成电路材料,显示面板材料或者印刷电路板。
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半导体行业新材料深度报告:硅片、光刻胶、靶材、电子特气等.pdf
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- 2020/03/02
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半导体制造材料包含硅片、光刻胶、光掩膜、溅射靶材、CMP抛光材料、湿化学品、电子特气、石英材料等。近年来,半导体晶圆制造产能持续向中国转移,国内各地加码晶圆产能规划,我们判断国内半导体制造材料行业已经进入快速上行趋势
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光刻胶行业深度报告:国产化正当时,龙头公司放量在即.pdf
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- 2020/02/28
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光刻胶是光刻工艺的关键化学品,主要利用光化学反应将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上,被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作,下游主要用于集成电路、面板和分立器件等领域,是微细加工技术的关键性材料。
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