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上海新阳研究报告：电镀清洗技术国内领先，高分辨光刻胶量产在即。核心电镀清洗技术升级，外购拓展涂料业务。公司成立于 1999 年，以半 导体用电子化学品和配套设备起家，发展前十年自研第一代电子电镀和清 洗技术，半导体封装引线脚工艺取得重大突破；成立后十年，突破第二代 电镀和清洗技术，填补我国芯片制造铜互连工艺材料的空白，是目前国内 唯一能满足芯片 90-14 纳米铜制程全技术节点对电镀清洗产品要 求的企 业，同时开发蚀刻液、研磨液、光刻胶等半导体材料。此外，公司于 2013 年通过收购江苏考普乐进军氟碳涂料领域，涂料成为公司主要业务之一。

聚焦半导体电子化学品，新建产能待释放。公司正在推动子公司江苏考普 乐（经营涂料业务）新三板独立挂牌，本部将集中资源布局半导体材料。 公司现有上海本部、合肥第二工厂和上海化学工业区三大生产基地，2022 年在产的上海本部基地电子化学品产能达 1.9 万吨/年；合肥第二生产基地 一期 1.7 万吨/年（含 500 吨光刻胶）预计于 23Q4 投产，总投资 3.35 亿 元，二期 5.3 万吨/年产能预计 24H2 投产；上海化学工业区拟建设 3 万吨/ 年电子化学品、500 吨/年光刻胶，预计 2025 年底前竣工，2026 年 6 月底 前投产。公司电子化学品规模保持强劲增势，三大基地产能释放后，核心 业务将进一步聚焦半导体材料。

高分辨率光刻胶量产在即，部分产品订单陆续落地。公司合计规划 I 线、 KrF、ArF干/湿法半导体光刻胶产能 1513 吨，包括上海本部 513 吨，合肥 基地 500 吨，上海化学工业园 500 吨，同时规划有 10000 吨光刻胶稀释 剂。公司目前已有 ArF干法、ArF浸没式、KrF、I线等产品超 10 种款式， 30 项验证进行中。其中，I 线、KrF 光刻胶已在超 10 家客户端提供样品进 行测试验证，部分产品已获得晶圆制造企业小批量连续订单；KrF 厚膜光 刻胶于 2022 年如期实现稳定量产；ArF 干法光刻胶于 2022 年开始小批量 销售，目前正处于客户认证阶段，预计 2023 年开始稳定量产；ArF 浸没 式光刻胶的研发进展顺利，ASML-1900 光刻机安装调试基本结束。