半导体材料专题报告：光刻胶行业投资宝典.pdf
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- 时间：2020/04/14
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光刻胶又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的混合液体。其组成部分包括:光引发剂(包括光增感剂、光致产酸剂)、 光刻胶树脂、单体、溶剂和其他助剂。光刻胶可以通过光化学反应，经曝光、显影等光刻工序将所需要的微细图形从 光罩(掩模版)转移到待加工基片上。依据使用场景，这里的待加工基片可以是集成电路材料，显示面板材料或者印 刷电路板。
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