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光刻胶行业深度报告：光刻核心材料亟需替代，国产光刻胶黄金发展机遇已至。光刻工艺核心材料，助力制程持续升级。光刻胶发展至今已有百年历史，现已广泛 用于集成电路、显示、PCB 等领域。作为光刻工艺的核心材料，光刻胶帮助将掩 膜版上的图形转移到衬底表面，其分辨率直接决定了特征尺寸的大小，其质量和性 能直接影响制造产线的良率，高壁垒和高价值量是典型特征。

全球百亿美金市场，大陆增速远高于全球。根据 Reportlinker 数据，全球光刻胶市 场预计 2019-2026 年 CAGR 有望达到 6.3%，至 2023 年突破 100 亿美金，到 2026 年超过 120 亿美元。大陆市场增速高于全球，2022 年规模有望超过百亿人民 币，占全球光刻胶市场比例也将持续提升，到 2026 年占比有望从 2019 年 15%左 右提升到 19.3%。从下游领域看，显示、PCB、IC 是三大应用领域，半导体光刻 胶技术难度最高，增速最快。SEMI 统计数据显示，2021 年全球 IC 光刻胶市场规 模达 24.7 亿美元，较上年同期增长 19.49%，大陆增速超全球两倍。LCD 光刻胶 市场稳健增长，2020 年全球规模近 14 亿美金，2021-2026 年 CAGR 为 2%，大陆 受益产业转移和本土面板厂崛起，2019-2023 年 CAGR 达 14.6%，高于全球水 平。

大陆光刻胶自给率较低，国产替代空间广阔。就 IC 光刻胶而言，2020 年我国 IC 光刻胶自给率低，其中 g/i 线光刻胶自给率小于 10%，KrF 光刻胶约 5%，更高端 的 ArF 及 EUV 光刻胶几乎空白。面板胶方面，LCD 光刻胶的全球供应集中在日 本、韩国、中国台湾等地区，我国彩色和黑色光刻胶市场国产化率仅为 5%左右。 PCB 光刻胶方面，感光油墨及湿膜光刻胶合计自给率约 46%，但相对高端的干膜 光刻自给率较低。我国光刻胶整体自给率偏低，大陆供应商替代空间广阔。

需求旺盛叠加龙头减产，大陆公司有望加速替代。全球光刻胶市场主要由美日企业 主导，CR4 约 70%。近年来，随着光刻胶的需求攀升，叠加日本龙头减产，光刻 胶出现供不应求的局面，部分中小晶圆厂甚至出现了“断供”现象。目前大陆企业 在 g/i 线光刻胶已形成一定规模的销售，中高端光刻胶方面，彤程新材的 KrF 光刻 胶产品已批量供应国内主要 12 英寸、8 英寸晶圆厂，晶瑞电材 KrF 光刻胶加紧建 设中，另有多家企业 ArF 光刻胶研发顺利进行，其中南大光电 ArF 产品已通过下游 客户验证，有望在未来形成销售，光刻胶国产替代趋势显著。