光刻胶产业深度报告:国产光刻胶迎来黄金发展机遇期.pdf
- 上传者:Bosunram
- 时间:2021/08/16
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光刻胶是集成电路的最核心的材料,但仍为我国“卡脖子”技术,全球缺芯、日本断供背景下,国产光刻胶迎来黄金发展机遇。光刻工艺是集成电路最重要的工艺技术,制程时间占比约为 40-50%,制造成本占比约为 35%,光刻胶材料成本占比约为 5-6%。光刻胶的质量和性能直接决定集成电路的良率,光刻的线宽极限和精度直接决定集成电路的集成度、可靠性和成本。但因光刻胶具有极高技术、资金、客户壁垒,国产化率处于较低水平,低端产品占据主要市场,光刻胶有三个主要应用场景,分别为平板显示用光刻胶、半导体用光刻胶以及印制电路板用光刻胶,国产化率仅为 5%、<20%、<50%。全球光刻胶生产处于高度集中格局,2019 年前五大厂商市场份额为 87%,其中信越化学为13%,2020 年日本信越化学限供中国光刻胶,国产光刻胶迎来突破契机,本土企业纷纷加速导入下游国内企业客户体系,国家政策予以强有力支持,2020年出台《关于扩大战略性新兴产业投资 培育壮大新增长点增长极的指导意见》,提出加快光刻胶等领域技术突破,国产光刻胶迎来黄金发展机遇期。
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