光刻胶产业深度报告：国产光刻胶迎来黄金发展机遇期.pdf

上传者：B*******
时间：2021/08/16
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光刻胶是集成电路的最核心的材料，但仍为我国“卡脖子”技术，全球缺芯、日本断供背景下，国产光刻胶迎来黄金发展机遇。光刻工艺是集成电路最重要的工艺技术，制程时间占比约为 40-50%，制造成本占比约为 35%，光刻胶材料成本占比约为 5-6%。光刻胶的质量和性能直接决定集成电路的良率，光刻的线宽极限和精度直接决定集成电路的集成度、可靠性和成本。但因光刻胶具有极高技术、资金、客户壁垒，国产化率处于较低水平，低端产品占据主要市场，光刻胶有三个主要应用场景，分别为平板显示用光刻胶、半导体用光刻胶以及印制电路板用光刻胶，国产化率仅为 5%、<20%、<50%。全球光刻胶生产处于高度集中格局，2019 年前五大厂商市场份额为 87%，其中信越化学为13%，2020 年日本信越化学限供中国光刻胶，国产光刻胶迎来突破契机，本土企业纷纷加速导入下游国内企业客户体系，国家政策予以强有力支持，2020年出台《关于扩大战略性新兴产业投资培育壮大新增长点增长极的指导意见》，提出加快光刻胶等领域技术突破，国产光刻胶迎来黄金发展机遇期。