华海清科在CMP领域布局及收入情况如何?

华海清科在CMP领域布局及收入情况如何?

最佳答案 匿名用户编辑于2023/03/20 14:16

CMP 设备本土市场领先,国产化提速带来收入、业绩高增长。

华海清科是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务, 主要产品为化学机械抛光(CMP)设备。

CMP 是先进集成电路制造前道工序、先进封装等环节必需的关键制程工艺。集成电路的制造过程好比建多层的楼房,每搭 建一层楼层都需要让楼层足够平坦齐整,才能在其上方继续搭建另一层楼,否则楼面就会高低不平,影响整体性能和可靠性, 而能够有效令集成电路的“楼层”达到纳米级全局平整的技术就是 CMP 技术,CMP 设备则是对硅片/晶圆自动化实施 CMP 工艺的超精密装备。

如果晶圆(芯片)制造过程中无法做到纳米级全局平坦化,既无法重复进行光刻、刻蚀、薄膜和掺杂等关键工艺,也无法将 制程节点缩小至纳米级的先进领域,因此随着超大规模集成电路制造的线宽不断细小化而产生对平坦化的更高要求和需求, CMP 在先进工艺制程中具有不可替代且越来越重要的作用。

随着摩尔定律的延续,当制造工艺不断向先进制程节点发展时,其对 CMP 技术的要求相应提高、步骤也会不断增加,例如 制程节点发展至7nm以下时,芯片制造过程中CMP的应用在最初的氧化硅CMP和钨CMP基础上新增了包含氮化硅CMP、 鳍式多晶硅 CMP、钨金属栅极 CMP 等先进 CMP 技术,抛光环节就明显增多,大幅刺激了集成电路制造商对 CMP 设备的 采购和升级需求。

CMP 设备包括抛光、清洗、传送三大模块,核心是抛光模块,其作业过程中,抛光头将晶圆待抛光面压抵在粗糙的抛光垫 上,借助抛光液腐蚀、微粒摩擦、抛光垫摩擦等耦合实现全局平坦化。

公司所生产的 CMP 设备可广泛应用于 12 英寸和 8 英寸的集成电路大生产线,产品总体技术性能已达到国内领先水平。公 司推出了国内首台拥有核心自主知识产权的 12 英寸 CMP 设备并实现量产销售,是目前国内唯一一家为集成电路制造商提 供 12英寸 CMP 商业机型的高端半导体设备制造商。公司的 12英寸 CMP 设备主要有 Universal-300 T/X/Dual/B/E 五款, 各款产品适应的耗材、工艺节点和应用场景不相同,配置的抛光头数量和清洗模块存在差异,其中 Universal-300T 的清洗 效果更好,可以面向 28nm 以下的逻辑工厂和 10Xnm 的存储工厂的 CMP 需求。

其中公司研发的 12英寸系列 CMP 设备(Universal-300 型、Universal-300Plus 型、Universal-300Dual 型、Universal-300X 型)在国内已投产的 12英寸大生产线上实现了产业化应用,截至到 2021年年底累计量产晶圆超 1300万片,且在逻辑芯片 制造、3D NAND 制造、DRAM 制造等领域的工艺技术水平已分别突破至 14nm、128层、1X/1Ynm,均为当前国内大生产 线的最高水平;公司研发的 8英寸系列 CMP 设备 Universal-200 型、Universal-200Plus 型)已在国内集成电路制造商中实 现了产业化应用,主要用于晶圆制造、MEMS 制造及科研攻关等领域。

公司主营业务为 CMP 设备的研发、生产、销售与服务。公司 2019年、2020年和 2021年营业收入分别为 2.11亿元、3.86 亿元和 8.05 亿元,分别同比增长 491.44%、82.95%和 108.58%。

公司主营业务快速增长的动力来自三个方面:1)国内集成电路产业发展态势良好,新建、扩建产线数量和资本开支大幅增 长;2)产品总体技术已达国内领先水平,打破了国际厂商的长期垄断,国产化替代的速度较快;3)公司拥有优质客户资源 和良好市场品牌,包括中芯国际、华虹、长江存储、长鑫存储等大生产线都在应用公司的产品,不但产品需求量大,而且形 成了较好的品牌效应,有利于公司快速拓展新客户。2022年上半年,公司实现收入 7.17亿元,同比增长 144.27%,高增长 在延续。

从公司主营业务收入的来源看,主要来自于 CMP 设备的销售。2019-2021 年,公司 CMP 设备销售收入分别为 1.95 亿元、 3.53 亿元和 6.94亿元,占主营业务收入的比例分别为 92.39%、91.55%和 86.19%。2021 年,公司 CMP 设备销售收入较 去年同期增加 3.41 亿元,同比增长 96.37%,成长快速。

公司毛利率持续走高,净利润维持在高位。2021年毛利率达到 44.73%,较上年同期上升 6.56个百分点。一方面,公司 CMP 设备获得多个客户验收认可后进入量产阶段,2019年至 2021年,分别生产了 13台、35 台和 93台 CMP 设备,规模化原 材料采购使得议价能力提高,生产规模的增长加大了固定成本的分摊,同时优化选型令直接材料的价格逐步降低,综合降低 了生产成本;另一方面,公司持续进行创新研发,推出新功能、新配置的高端产品,单台设备价格有所提升。2021年以来, 公司期间费用控制有效。2021 年期间费用为 30.62%,较上年下降 3.14 个百分点;公司实现净利润 1.98 亿元,同比增长 102.76%。2022 年上半年,公司实现净利润 1.86 亿元,同比增长 163.26%,高增长在延续。

参考报告

华海清科(688120)研究报告:国产CMP设备龙头,正培育耗材及技术服务新增长点.pdf

华海清科(688120)研究报告:国产CMP设备龙头,正培育耗材及技术服务新增长点。CMP设备本土市场领先,国产化提速带来收入、业绩高增长。华海清科是一家拥有核心自主知识产权的高端半导体设备制造商,主要从事半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务,主要产品为化学机械抛光(CMP)设备。CMP是先进集成电路制造前道工序、先进封装等环节必需的关键制程工艺,其利用化学腐蚀和机械研磨的协同配合,实现晶圆表面多余材料的高效去除和全局纳米级平坦化。CMP设备则是对硅片/晶圆自动化实施CMP工艺的超精密装备。随着超大规模集成电路制造的线宽不断细小化而产生了对平坦化的更高要求和需求,CMP在先进工艺制程中具...

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