华海清科公司报告:先进制程CMP设备加速发展,“装备+服务”平台化布局亮眼.pdf
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- 时间:2026/01/04
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华海清科公司报告:先进制程CMP设备加速发展,“装备+服务”平台化布局亮眼。CMP设备国产替代龙头,服务类业务空间广阔。CMP工艺与芯片制程材料、互连工艺协同发展,同时耗材特征显著,我们测算,2026E中国大陆CMP设备市场空间为14.7亿美元,CMP耗材市场空间不低于11.8亿美元,其中CMP通用耗材市场空间不低于8.8亿美元,CMP关键耗材市场空间计不低于3.0亿美元。公司是CMP设备国产替代龙头,先进制程设备持续发展,高端产能加速扩充,近年CMP设备快速放量。随着公司CMP设备保有量持续增长,耗材零部件、抛光头维保服务等需求有望加速放量。依托CMP设备优势,公司在先进制程晶圆再生领域更具竞争力,近年积极扩充晶圆再生产能,参考海外同业公司,晶圆再生、关键耗材及维保等服务类业务空间广阔。
离子注入、减薄等设备新品快速发展。离子注入机行业集中度高,美国是中国设备主要进口来源。我们测算,2024年-2026年中国大陆离子注入设备市场空间为16.8/17.1/18.8亿美元,2026E低能大束流/中低束流/高能离子注入设备市场空间分别为11.3/3.8/3.4亿美元。晶圆减薄是3D IC的关键工艺,减薄机技术难度较高,日本厂商主导全球市场。公司近年持续完善设备品类,收购芯嵛公司布局离子注入设备,减薄机快速发展, “装备+服务”平台化布局加速。
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