CMP在晶圆生产中应用于哪些环节?

CMP在晶圆生产中应用于哪些环节?

最佳答案 匿名用户编辑于2022/11/08 13:38

CMP工艺广泛用于晶圆生产的多个生产环节中,下面我来介绍一下。

1)硅片制造环节:半导体抛光片生产流程中,在完成拉晶、硅锭加工、切片成型环节 后,在抛光环节,为最终得到平整洁净的抛光片需要通过 CMP 设备及工艺来实现;

2)集成电路制造环节:芯片制造主要可分为薄膜淀积、CMP、光刻、刻蚀、离子注入 等工艺环节,芯片制造是 CMP 设备应用最主要的场景。

3)先进封装环节:CMP 工艺会越来越多被引入并大量使用,其中硅通孔(TSV)技术、 扇出(Fan-Out)技术、2.5D 转接板(interposer)、3D IC 等将用到大量 CMP 工艺,这将成 为 CMP 设备除 IC 制造领域外一个大的需求增长点。

参考报告

华海清科(688120)研究报告:CMP设备龙头,平台化战略扬帆起航.pdf

华海清科(688120)研究报告:CMP设备龙头,平台化战略扬帆起航。公司是国内CMP(化学机械抛光)设备龙头企业,CMP设备市场小而美,海外企业寡头垄断,随着国内本土晶圆产能持续扩张,国内CMP设备需求将持续旺盛,公司正引领CMP设备国产化进入1→10的放量阶段。此外,公司立足CMP设备,切入减薄设备、供液系统、晶圆再生等新领域,多维增长曲线将持续推动公司业绩快速成长,半导体设备平台型公司雏形已显。国内CMP设备龙头,业绩/新签订单规模快速成长。公司专注研发CMP设备近十年,推出了国内首台拥有核心自主知识产权的12英寸CMP设备并实现量产,也是目前国内唯一提供12英寸CMP商业机型...

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