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拓荆科技（688072）研究报告：引领薄膜沉积设备进口替代，业绩持续高速增长。本土半导体薄膜沉积设备龙头，业绩持续快速增长 公司是本土半导体薄膜沉积设备龙头，产品覆盖 PECVD、SACVD 和 ALD，其中 PECVD 和 SACVD 是国内唯一一家产业化应用企业，相关产品成功供货中芯国际、华 虹集团、长江存储等主流客户，引领进口替代同时，业绩实现快速增长。1）收入端： 2021 年公司实现营收 7.58 亿元，2018-2021 年 CAGR 为 121%，2021 年 PECVD 收入 6.75 亿元，占当年营收比重达 89.11%，为收入最大来源。2）利润端：2018-2021 年公 司扣非销售净利率为-212.23%、-24.86%、-13.11%和-10.82%，虽尚未真正实现盈利， 但扣非销售净利率持续改善；我们注意到 2021-2022Q1 公司毛利率分别为 44.01%和 47.44%，增幅明显，甚至略高于本土前道刻蚀龙头毛利率。我们认为规模效应下，期 间费用率下降，公司盈利能力存在较大提升空间。截至 2021 年 9 月，公司在手订单超 过 15 亿元，2022Q1 末存货和合同负债分别达到 12.94 和 7.80 亿元，分别较 2021Q3 末增长 32%和 75%，充足的订单有望支撑公司业绩持续快速增长。

薄膜沉积设备是高价值量占比环节，公司产品竞争优势明显

全球晶圆产能东移，中国大陆成为全球晶圆扩产中心，根据集微咨询，中国大陆 未来 5 年将新增 25 座 12 英寸晶圆厂，总规划月产能将超过 160 万片，可见中国大陆 对晶圆设备的需求有望长期维持高位。1）薄膜沉积设备作为晶圆制造三大核心设备之 一，在晶圆制造设备中价值量占比高达 25%，仅次于刻蚀设备，其中 PECVD 和 ALD 在薄膜沉积设备中占比分别达到 33%和 11%。2）先进制程工艺使得薄膜沉积设备的需 求存在量价齐升逻辑，我们预计 2025 年全球&本土半导体薄膜沉积设备市场规模将分 别达到 340 和 136 亿美元，2021-2025 年 CAGR 分别为 16%和 25%。3）全球半导体薄 膜沉积设备仍由 AMAT、LAM、TEL 等海外龙头主导，公司在集成电路 PECVD 和 SACVD 领域先发优势明显，ALD 同样是国内领先设备企业，有望充分受益于本土晶 圆厂扩产浪潮。

PECVD 仍有较大国产化提升空间，SACVD、ALD 成新的增长点

公司在稳固 PECVD 市场竞争力的同时，SACVD&ALD 也持续取得产业化突破， 成长空间不断打开。1）PECVD：公司核心产品，在国内市占率依然较低，2021 年不 到 6%。公司 PECVD 已全面覆盖逻辑、DRAM 存储、FLASH 闪存各技术节点通用介 质薄膜，并在 14nm 及 10nm 以下制程积极配合客户产业验证，随着客户验证顺利推 进，有望延续高速增长；2）SACVD：适用于 45-10nm 沟槽填充，先进制程下渗透率 存在提升趋势，公司产品体系不断完善，2020 年以来客户验证机台快速增加，有望进 入放量阶段；3）ALD：膜厚精准可控&台阶覆盖率极高，技术优势突出，公司率先实 现 PE-ALD 产业化，同时布局 Thermal-ALD，IPO 募投项目将助力大规模产业化进程。