拓荆科技（688072）研究报告：PECVD、SACVD破局者，引领半导体薄膜设备国产化浪潮.pdf

拓荆科技（688072）研究报告：PECVD、SACVD破局者，引领半导体薄膜设备国产化浪潮。①拓荆科技创立于 2010 年，公司十余年来专注于半导体薄膜沉 积设备研发、制造与销售，PECVD、ALD、SACVD 产品不断取 得突破，掌握多项核心技术，在国内处于领先地位。凭借优异产 品性能，相关产品导入中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存 储、ICRD、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂商。 ②公司 2018-2021 年营业收入分别为 0.71、2.51、4.36、7.58 亿元， 归母净利润分别为-1.03、-0.19、-0.11、0.68 亿元，随着产品成熟 度提高与客户拓展，公司收入规模快速增长、净利润逐渐改善。 产品拆分看，PECVD 设备是公司主要收入来源，多年营收占比 超 90%。量价拆分看，PECVD 收入高速增长主要系销量台数快 速提升。盈利能力方面，随着公司技术水平提升、先进工艺机台 的推出和产品结构优化，毛利率逐年提高，2021 年高达 44%。

薄膜沉积设备重要性不断提高，公司在代表厂商的份额不断提升

①2021 年全球半导体设备市场规模达到创纪录的 1026 亿美元， 同比增长 44%，中国大陆销售额增速表现优于全球，连续两年成 为全球第一大市场，给国产半导体设备厂商带来空前发展机会。

②市场规模：薄膜沉积设备是晶圆制造三大主设备之一，市场规 模稳步增长，2022 年全球薄膜沉积设备市场规模将超过 200 亿美 元，PECVD、溅射 PVD、ALD 是薄膜沉积三大技术路线，相应 设备市场占比分别约 31%、23%和 12%。随着逻辑领域先进制程 发展与存储 3D 结构层数增加，薄膜沉积设备重要性不断提升。

③竞争格局：全球薄膜沉积设备都呈现高度垄断的竞争格局，基 本由美、日、欧巨头垄断。国内半导体薄膜沉积设备市场仍以外 资企业为主，拓荆科技在其产品领域实现较大的份额突破，国内 代表厂商中公司 PECVD 设备占比 16%，SACVD 占比 25%。