电子行业HBM专题报告:AI的内存瓶颈,高壁垒高增速.pdf

  • 上传者:九阳神功
  • 时间:2024/03/11
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电子行业HBM专题报告:AI的内存瓶颈,高壁垒高增速。HBM是限制当前算力卡性能的关键因素,海力士、三星、美光正加大研发投入和资本开支,大力扩产 并快速迭代HBM,预计2024年HBM3e 24GB/36GB版本将量产/发布,内存性能进一步提高。HBM供需 将持续紧俏,市场规模高速增长。通过分析生产工艺(TSV、键合等)和技术演进方向(先进制程、 叠层),我们认为封装测试、前道和后道先进封装的设备和材料将是HBM主要受益方向

HBM是当前算力的内存瓶颈。存储性能是当下制约高性能计算的关键因素,从存储器到处理器,数据 搬运会面临带宽和功耗的问题。为解决传统DRAM带宽较低的问题,本质上需要对单I/O数据速率和位 宽进行提升。HBM由于采用了TSV、微凸块等技术,DRAM裸片、计算核心间实现了较短的信号传输 路径、较高的I/O数据速率、高位宽和较低的I/O电压,因此具备高带宽、高存储密度、低功耗等优势。 即便如此,当前HBM的性能仍然跟不上算力卡的需求。

三大原厂持续加大研发投入,HBM性能倍数级提升。随着技术的迭代,HBM的层数、容量、带宽指标 不断升级,目前最先进的HBM3e版本,理论上可实现16层堆叠、64GB容量和1.2TB/s的带宽,分别为初 代HBM的2倍、9.6倍和4倍。从Trendforce公布的HBM Roadmap来看,2024年上半年,海力士、三星、 美光均会推出24GB容量的HBM3e,均为8层堆叠。2024年下半年,三家厂商将推出36GB版本的HBM3e, 或为12层堆叠。此外,HBM4有望于2026年推出。

HBM制造集成前道工艺与先进封装,TSV、EMC、键合工艺是关键。HBM制造的关键在于TSV DRAM, 以及每层TSV DRAM之间的连接方式。目前主流的HBM制造工艺是TSV+Micro bumping+TCB,例如三 星的TC-NCF工艺,而SK海力士则采用改进的MR-MUF工艺,在键合应力、散热性能、堆叠层数方面更 有优势。目前的TCB工艺可支撑最多16层的HBM生产,随着HBM堆叠层数增加,以及HBM对速率、散 热等性能要求的提升,HBM4开始可能引入混合键合工艺,对应的,TSV、GMC/LMC的要求也将提高。

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