上海新阳研究报告:电镀清洗技术国内领先,高分辨光刻胶量产在即.pdf
- 上传者:大力人
- 时间:2023/09/06
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上海新阳研究报告:电镀清洗技术国内领先,高分辨光刻胶量产在即。核心电镀清洗技术升级,外购拓展涂料业务。公司成立于 1999 年,以半 导体用电子化学品和配套设备起家,发展前十年自研第一代电子电镀和清 洗技术,半导体封装引线脚工艺取得重大突破;成立后十年,突破第二代 电镀和清洗技术,填补我国芯片制造铜互连工艺材料的空白,是目前国内 唯一能满足芯片 90-14 纳米铜制程全技术节点对电镀清洗产品要 求的企 业,同时开发蚀刻液、研磨液、光刻胶等半导体材料。此外,公司于 2013 年通过收购江苏考普乐进军氟碳涂料领域,涂料成为公司主要业务之一。
聚焦半导体电子化学品,新建产能待释放。公司正在推动子公司江苏考普 乐(经营涂料业务)新三板独立挂牌,本部将集中资源布局半导体材料。 公司现有上海本部、合肥第二工厂和上海化学工业区三大生产基地,2022 年在产的上海本部基地电子化学品产能达 1.9 万吨/年;合肥第二生产基地 一期 1.7 万吨/年(含 500 吨光刻胶)预计于 23Q4 投产,总投资 3.35 亿 元,二期 5.3 万吨/年产能预计 24H2 投产;上海化学工业区拟建设 3 万吨/ 年电子化学品、500 吨/年光刻胶,预计 2025 年底前竣工,2026 年 6 月底 前投产。公司电子化学品规模保持强劲增势,三大基地产能释放后,核心 业务将进一步聚焦半导体材料。
高分辨率光刻胶量产在即,部分产品订单陆续落地。公司合计规划 I 线、 KrF、ArF干/湿法半导体光刻胶产能 1513 吨,包括上海本部 513 吨,合肥 基地 500 吨,上海化学工业园 500 吨,同时规划有 10000 吨光刻胶稀释 剂。公司目前已有 ArF干法、ArF浸没式、KrF、I线等产品超 10 种款式, 30 项验证进行中。其中,I 线、KrF 光刻胶已在超 10 家客户端提供样品进 行测试验证,部分产品已获得晶圆制造企业小批量连续订单;KrF 厚膜光 刻胶于 2022 年如期实现稳定量产;ArF 干法光刻胶于 2022 年开始小批量 销售,目前正处于客户认证阶段,预计 2023 年开始稳定量产;ArF 浸没 式光刻胶的研发进展顺利,ASML-1900 光刻机安装调试基本结束。
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