安集科技（688019）研究报告：国内CMP抛光液先行者，平台型优势显现.pdf

上传者：楚**
时间：2023/02/08
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安集科技（688019）研究报告：国内CMP抛光液先行者，平台型优势显现。[Table_Summary] 致力于 CMP 抛光液和功能性湿电子化学品，持续拓展产品平台。公司成立于 2006 年，2019 年成为科创板首批上市企业，主要研发生产 CMP 抛光液和功能性湿电子化学品。公司 CMP 抛光液涵盖五大产品平台，功能性湿电子化学品主要包括刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液等产品。公司与客户紧密合作，根据需求改进现有产品，同时与客户共同研发定制化新品。公司募集扩产布局上游原材料，新建磨粒、特殊电子级添加剂等关键原材料产线，实现原材料自主可控与成本优化。

CMP 抛光液：国内化学机械抛光液先行者，打破国外垄断格局。需求侧：全球晶圆厂大量扩产，同时晶体管结构不断微缩或堆叠，使得工艺层数增加，带动 CMP 工艺步骤数增加。2021 年全球 CMP 抛光液市场规模达到 17.92 亿美元，预计 2024 年达到 22.24 亿美元，预计 2022 年中国 CMP 抛光液市场规模达到 22 亿元。供给侧：化学机械抛光液长期由美国和日本企业垄断，公司突破海外厂商的垄断，市占率逐年上升，2021 年公司抛光液的全球市占率约为 5%，中国大陆市占率约为 32%。

功能湿电子化学品：光刻胶去除剂持续突破，拓展多品类湿电子化学品。 需求侧：中国前道晶圆制造领域预计 2025 年达到 7.65 亿美元，2020-2025 年 CAGR 为 9.7%，预计 2025 年后道封装湿化学品市场规模达到 2.62 亿美元。供给侧：我国湿电子化学品行业起步较晚，在高端的湿电子化学品领域，外资品牌占据大部分市场。本土企业化具备性价比高、供应安全稳定的优势，随着研发和生产技术的突破，拥有较大的国产替代空间。

增长逻辑：平台化优势显现，快速响应本土客户需求。公司逐步完善产品平台，攻克先进技术节点，多款用于先进制程的 CMP 抛光液处于测试验证。上游原材料方面，氧化铈颗粒及多款硅溶胶测试验证顺利，自制原料助力成本优化和产品性能提升。公司贴近中国大陆及中国台湾市场，运输成本优势明显，能够快速响应客户需求。