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2025年光刻机行业深度研究报告：半导体设备价值之冠，国产替代迎来奇点时刻
- 2025/10/15
- 1168
- 华创证券
光刻环节位于晶圆制造流程的核心位置，是实现电路图案转移的起点环节。在前段工艺中，晶圆需经过反复的沉积、光刻、刻蚀与离子注入等步骤，光刻负责将电路设计图案精确投射到硅片表面，并通过后续刻蚀形成纳米级器件结构。作为贯穿各制程的关键工序，光刻需多次重复，直接决定了器件尺寸、线宽与集成度。
标签： 光刻机 半导体 半导体设备 -
2025年光刻机行业深度报告：核心技术、竞争格局、国产替代及相关公司深度梳理
- 2025/07/17
- 2178
- 慧博智能投研
光刻机是半导体设备中市场占比最大的品类。根据SEMI及中商产业研究院数据显示，2024年全球半导体设备销售额为1090亿美元，从细分产品来看，光刻机、刻蚀机、薄膜沉积设备为半导体设备主要核心设备，市场占比均在20%以上。其中，光刻机为市场占比最高品类，光刻机的占比达24%，并且随芯片制程迭代，这一占比还在持续提高。
标签： 光刻机 -
2025年电子行业专题报告：光刻机国产化迫在眉睫，关注产业链投资机会
- 2025/07/17
- 196
- 山西证券
光刻是芯片制造的关键工艺，光刻机是核心设备。芯片制造流程大致包括晶圆加工、氧化、光刻、刻蚀、薄膜沉积、互连、测试、封装等重要步骤。
标签： 电子 光刻机 -
2025年光刻机行业深度报告：核心部件篇，曙光已现
- 2025/07/10
- 939
- 国海证券
光刻工艺直接决定集成电路制造的细微化水平。光刻工艺是对光刻胶进行曝光和显影，形成三维光刻胶图形的过程，光刻胶图形为所有后续图形转移工艺提供了基础，直接决定集成电路制造的微细化水平。光刻工艺的核心是对准和曝光，实现设备是光刻机。
标签： 光刻机 -
2025年光刻机行业分析：自主可控最核心环节，产业迎来黄金加速期
- 2025/06/13
- 793
- 国金证券
在半导体制造领域，光刻机是延续摩尔定律的核心装备。摩尔定律的维系依赖光刻技术分辨率提升，而缩短光源波长是关键路径。
标签： 光刻机 -
2025年旭光电子研究报告：三大业务协同推进，布局可控核聚变、光刻机等新领域，彰显发展潜力
- 2025/06/03
- 2640
- 方正证券
成都旭光电子股份有限公司，是集电子管、真空灭弧室、固封极柱、高低压成套配电装置、陶瓷金属化等核心业务为一体的全球最大的多元化生产企业之一。公司主营业务包括电力设备业务、军工业务和电子材料业务三大板块。
标签： 旭光电子 光刻机 -
2025年光刻机产业链专题报告：自主可控核心环节，国产替代迫在眉睫
- 2025/04/23
- 2043
- 国盛证券
光刻工艺是芯片制造流程中技术难度最大、成本最高、周期最长的环节。芯片制造流程可分为芯片设计、前道工序（芯片制造）和后道工序（封测）三个环节。
标签： 光刻机 -
2025年华辰装备研究报告：丝杠磨床受益于机器人浪潮，合作长光所切入光刻机赛道
- 2025/04/21
- 491
- 华西证券
华辰装备成立于2007年，是国内领先的的高端精密磨削装备公司，主营产品全自动数控轧辊磨床实现进口替代，积极推动亚μ级高端复合磨削、精密螺纹/导轨磨床等新品打破海外垄断。
标签： 华辰装备 机器人 光刻机 丝杠 -
2025年光刻机专题分析：工业明珠，自主高地
- 2025/01/13
- 1233
- 方正证券
光刻工艺是半导体制造过程中的核心工艺之一，曝光用到光刻机，主流机型为投影式光刻机。一般的光刻工艺要经历涂光刻胶、前烘、曝光、显影、坚膜等工序，将晶圆表面薄膜的特定部分除去而留下带有微图形结构的薄膜，完成将设计好的电路图形从掩模版上转移到晶圆片表面光刻胶上。
标签： 光刻机 -
2024年光刻机产业专题报告：光刻机市场迎国产化机遇
- 2024/12/06
- 2827
- 国信证券
摩尔定律（Moore'sLaw）：1965年，英特尔联合创始人戈登·摩尔（GordonMoore）提出著名的摩尔定律：当价格不变时，集成电路上可容纳的电子元件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。
标签： 光刻机 -
2024年半导体行业研究报告：产业政策持续加码，国产光刻机任重道远
- 2024/11/19
- 1746
- 光大证券
光刻机是光刻工艺的核心设备。光刻机（MaskAligner）又称掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是所有半导体制造设备中技术含量最高的设备，包含上万个零部件，集合了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、表面物理与化学、精密仪器、机械、自动化、软件、图像识别领域等多项顶尖技术。
标签： 半导体 光刻机 -
2024年光刻机产业研究：国产设备发展任重道远，零组件企业或将长期受益
- 2024/09/14
- 1338
- 东海证券
光刻是决定集成电路线宽大小的关键环节，是决定芯片性能最关键的工艺之一。英特尔创始人之一的戈登·摩尔提出的著名的摩尔定律，即是当价格不变时，芯片容纳的晶体管数大约每18个月到24个月翻倍。单位面积芯片上的晶体管数量越多，相对来说对信息的加工处理速度更快、处理信息更多，整体芯片的性能就更好。
标签： 光刻机 -
光刻机技术全景报告
- 2024/09/09
- 276
- 星河智源
由星河智源发布了《光刻机技术全景报告》这篇报告。我将以图表的形式介绍一下，如果你想更深入地了解，可以下载原报告查看。如随时问增长，申请量和申请人数量都大幅提升，表明该专利技术处于增长期。由于专利公开的廷后性，近两年的申请量和申请人数量可能低。
标签： 光刻机 -
2024年光刻机行业专题报告：国之重器，路虽远行则将至
- 2024/08/23
- 6897
- 东兴证券
光刻是半导体芯片生产中最关键一环。半导体芯片生产主要分为IC设计、制造、封测三大环节，光刻是半导体芯片生产中最复杂、关键的工艺步骤，耗时长、成本高。
标签： 光刻机 -
2024年光刻机产业链深度报告：国产路漫其修远，中国芯上下求索
- 2024/07/19
- 2214
- 华金证券
光刻工艺是指集成电路制造中利用光学-化学反应原理和化学、物理刻蚀方法，将电路图形传递到单晶表面或介质层上，形成有效图形窗口或功能图形的工艺技术。光刻工艺可以理解为使用光刻技术进行某一类加工的一种工艺；而光刻技术是则指在光照作用下，借助光致抗蚀剂（即：光刻胶）将掩膜版上的图形转移到基片上的技术。典型的光刻工艺流程包括衬底制备、涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、去胶等。在光刻中主要使用工具及材料为光掩膜、光刻机及光刻胶。
标签： 光刻机
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