光刻机行业深度报告：核心部件篇，曙光已现.pdf

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时间：2025/07/07
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光刻机行业深度报告：核心部件篇，曙光已现。光刻机是芯片制程核心设备。光刻工艺直接决定芯片制造的细微化水平，光刻机的关键指标是分辨率、焦深、套刻精度和产率，其中，分辨率提升方式包括缩短曝光波长、增大数值孔径、降低工艺因子以及多重曝光，增加焦深能够促使光刻机容纳各种工艺误差，套刻精度影响光刻工艺良率和多重曝光水平，产率是光刻机实现产业化的必要条件。

核心部件是光刻产业关键壁垒。对于投影光学光刻机，主要部件包括光源、照明、物镜、工件台、调焦调平、对准等，EUV光刻机特征显著，体现在材料选择、多层反射膜结构、反射式投影系统、大功率光源以及磁悬浮工件台等方面。对于光刻机核心部件，加工流程复杂、设备种类较多，是产业重要壁垒之一。我们测算，2025E全球光刻机市场规模为293.7亿美元，照明+物镜、光源、工件台、其他部件市场规模为47.8、28.6、21.5、45.2亿美元；2025E全球EUV光刻机市场规模为96亿美元，EUV光刻机的照明+物镜、光源、工件台、其他部件市场规模为15.5、12.6、7.0、11.5亿美元。

技术变革+产业协作是ASML的成功要领。开放与合作是光刻机发展的主旋律，ASML的供应商遍布全球。1）Zeiss：百年光学巨头，ASML重要合作伙伴；2）Cymer：主导全球光刻机光源市场，已被ASML收购；3）Gigaphoton：激光器光源领先供应商，产品种类丰富；4）TRUMPF：EUV激光器实力强大，Cymer重要合作伙伴；4）莱宝：真空镀膜设备品类丰富，下游涉及EUV镜片镀膜。