光刻机行业深度报告:筚路蓝缕,寻光刻星火.pdf
- 上传者:子虚乌有
- 时间:2023/09/11
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光刻机行业深度报告:筚路蓝缕,寻光刻星火。光刻为IC制造核心工艺,光刻技术的演进成就了摩尔定律。光刻工艺占IC制造1/2的时间+1/3的成本,在瑞利公式:?? = ?1?/?? 的指导下,人类 在缩短波长?,增大数值孔径NA,降低工艺因子?1三个方面展开探索,目前已实现13.5nm波长与达物理极限的?1 ,正在向0.55NA EUV迈步。为 了实现进一步制程微缩,业界多采用多重曝光工艺,但对光刻机的套刻精度、图形畸变、稳定性有更高的要求。10nm及以下时,ArFi+多重曝光的 复杂度急剧上升,经济性下降,EUV的出现使摩尔定律得以延续。
光刻机由三大核心系统,数万个零件组成,是产业链各环节顶尖公司通力合作的成果。1)光源方面,DUV采用准分子激光器,技术掌握在Cymer 和Gigaphoton手中,国内科益虹源打破垄断;EUV光源是通过高功率CO2激光器轰击Sn滴而来,高功率激光器为核心组件。2)光学系统是光刻机 分辨率成像的保证,由照明系统和物镜系统构成,照明系统优化成像过程,实现分辨率增强;投影物镜系统将掩模图形聚焦成像,ZEISS为ASML关 键光学元件独供商,国内技术水平仍有较大差距。3)双工件台系统有效提高了光刻精度与效率,国内华卓精科和清华大学团队走在前列。
光刻重要性愈显,国内亟待0→1的突破。半导体行业十年翻倍,晶圆厂积极扩产,叠加芯片性能升级,光刻强度上升,预计5nm逻辑芯片的光刻支 出占比达35%,光刻工艺的重要性愈发凸显,市场规模快速增长,预计2024年有望达230亿美元,ASML在高端市场一枝独秀。2022年中国大陆光 刻机进口约40亿美元,主要从日本、荷兰进口,出口管制下光刻机存在断供隐忧,自主可控势在必行。依托举国之力,汇聚各科研院之所长,目前 已有阶段性成果陆续落地。光刻机产业化渐近,零部件投资先行,我们测算国内零部件市场空间约150亿元,市场空间大、技术关键性强。
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