光刻机产业专题报告：EUV光源主题，源头活水，换道超车.pdf

光刻机产业专题报告：EUV光源主题，源头活水，换道超车。近期 SSMB 方案得到广泛关注，我们认为存在 EUV 光源换道超车的可能性。 从技术层面看，SSMB 与同步辐射光源技术具有一定相似性，SSMB 具备产业 化验证条件。从供应链角度看，我国在同步辐射光源领域基础较好，在核心零 部件自主可控的前提下，HEPS 项目已完成光源出束。目前，SSMB 方案已完 成理论证明，项目建设有望提上日程。若 SSMB 方案商业化进展顺利，我国将 在光刻机领域取得重大突破并推动国内先进制程领域发展。围绕 SSMB 主题， 我们建议关注两条投资主线：项目基础设施供应商、光刻机关键零部件供应商。

回顾历史，光源选择决定光刻机高度。光源变革是光刻机技术迭代最有力的推 动者，其他技术的变革是对光源迭代的回应。回顾光刻机发展历史，ASML 正是 选择了激进光源技术才实现了换道超车。SR 光刻与 EUV 光刻均采用 XIL 技术， 由于非相干光功率较低限制了 SR 光源工业化量产。SR 光源和 EUV 光源均属 于软 X 射线波段，在光刻环节均采用 XIL 技术，上海光源的 XIL 线站已运行超 过十年，已取得一系科研和产业进展。但由于 SR 光源束团长度较长，产生的光 相干性较差功率较小，限制了其在工业领域的大规模量产，SR 光刻仅停留在实 验室阶段。

SSMB 能通过 FEL 同时实现光源的短波长和相干性，克服 SR 光源功率不足的 问题，预计投资规模较大。SSMB 存储环中的自由电子激光具有束团品质高、 波长连续可调、相干性强等优点，使得加速器光源产业化具备可行性。从投资规 模看，根据《稳态微聚束加速器光源》（唐传祥、邓秀杰，2022），SSMB 投 资强度较大，预计造价为数亿到十亿元。同时，参照 HEPS 项目，我们预计未 来 SSMB 项目主要零部件可达成自主可控，具备商业化落地前提。目前，HEPS 加速器组成已部分完成招标，根据 HEPS 官网以及中国政府采购网信息，HEPS 加速器的电子枪、微波功率源、配套仪器等供应商基本以国内厂商为主，供应商 包括沈阳科学仪器、宝胜科技、北京高能锐新科技、合肥科烨、合肥聚能、爱科 赛博、杭州永磁等；但真空系统配套设备组件采购仍较大程度依赖海外厂商，包 括普发真空、美国 MT、三井光中真空、韩国希尔泰等。