华海清科已开展的相关研发工作主要包括哪些？

这个我知道，答案都来自报告《华海清科（688120）研究报告：国产CMP设备龙头，营收业绩放量高增》，如果有兴趣了解更多相关的内容，请下载原报告阅读。

1.先进抛光系统研发：该研究工作目前主要集中于直驱式抛光驱动、多区压力调控抛光、 自适应承载头、预适应保持环等纳米级抛光技术的优化研发，并且已取得针对不同工艺 的 7 区抛光头技术等系列重要成果；

2.先进终点检测系统研发：该研究工作目前主要集中于金属纳米精度膜厚在线检测、非 金属纳米精度膜厚在线检测、晶圆形貌实时调控等关键技术的优化研发，已实现晶圆边 缘控制能力的显著提升；

3.先进超洁净清洗系统研发：该研究工作主要集中于马兰戈尼干燥、智能清洗以及清洗 单元多能量组合等关键技术的优化研发，目前最新研制的 MDS 清洗模块已通过多条产 线验证，满足 128L 3D NAND 制造 CMP 工艺要求；

4.精确传送系统研发：该研究工作主要集中于高产能设备架构、抛光装备运行参数智能 监测与调控、基于智能控制的抛光技术等关键技术的优化研发，且已取得显著的产能提 升与可靠性提升等系列重要成果。