中微公司专题研究报告：从点到面的半导体设备玩家.pdf
- 上传者：帮***
- 时间：2021/05/26
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定增投入三大潜力市场：1) 中微未来营收及获利成长的动能是从 CCP 介质刻蚀转到层次较高有 30-50%溢价及高毛利率的 ICP 硅/金属刻蚀; 2) 从逻辑转到刻蚀设备占资本开支比较高及要求高深宽比的存储器刻蚀，及转到较高单价/毛利率的关键层刻蚀设备；3) 公司未来数年将持续扩大其新设备研发如 Mini/Micro LED 外延片 MOCVD，化学薄膜沉积，光学检测，化学机械抛光，清洗等等。
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