拓荆科技发展历程、主要产品、股权结构、管理层及营收分析

薄膜沉积设备国产替代龙头，产品矩阵持续丰富。

1.薄膜沉积设备国产替代龙头

薄膜沉积设备国内领跑者，前瞻布局混合键合设备。2010年公司成立，2011年公司首台12英寸PECVD出厂到中芯国际验证，2013年通过中芯国际产品线测试，2016年公司首台12英寸ALD出厂到客户端，2019年公司SACVD研制成功并出厂到客户端，2022年公司Hybrid Bonding设备出厂，同年公司成功登陆科创板。公司成立至今聚焦薄膜沉积设备，现已形成PECVD、ALD、SACVD及HDPCVD为主的薄膜设备系列产品，近年积极发力混合键合设备，下游涉及集成电路晶圆制造、TSV封装、MEMS、Micro-LED和Micro-OLED等领域。

公司股权较为分散，并无控股股东和实际控制人，根据公司2024年三季报，公司前三大股东为国家集成电路产业投资基金、国投（上海）和中微公司，分别持股19.77%、13.61%、7.37%，沈阳信息产业创业投资管理有限公司和中科仪分别持股1.67%、1.54%。根据公司2024中报，公司全资子公司拓荆北京、拓荆上海、拓荆创益及参股子公司拓荆键科主要从事半导体专用设备的研发及生产，主要经营地址分别为北京、上海、沈阳及浙江，全资子公司岩泉科技主要从事对外投资活动。

管理层产业经验丰富，长期发展核心竞争力。公司创始团队以海归专家为核心，多位高管产业经验丰富，保障核心竞争力。董事长吕光泉是美国加州大学圣地亚哥分校博士，曾先后任职于美国科学基金会尖端电子材料研究中心、美国诺发、德国爱思强公司美国SSTS部，历任副研究员、工程技术副总裁等职。核心技术人员姜谦是美国布兰迪斯大学博士，曾先后任职于麻省理工学院、英特尔、美国诺发、欣欣科技（沈阳）有限公司，历任研究员、研发副总裁、执行董事等职位。

2.PECVD快速放量，产品矩阵持续丰富

PECVD收入持续快速增长，多类新品加速放量。受益于近年国内晶圆厂扩产及设备国产替代，公司主打产品PECVD设备收入持续快速增长，同时持续丰富产品矩阵，2019-2023年公司营收CAGR达81.14%，2021年公司实现扭亏，2021-2023年公司归母净利润CAGR达211.03%。2024Q1-3公司营收22.78亿元，同比增长33.79%，主要系公司多款基于新型设备平台（PF-300M和PF-300T Plus）及新型反应腔（Supra-D）开发的工艺设备实现收入确认；归母净利润2.71亿元，同比增长0.10%，原因一，公司新产品及新工艺的收入占比大幅提升，新产品及新工艺在客户验证过程成本较高，毛利率阶段性下降，原因二，公司研发投入同比显著增长。2023年公司实现收入27.05亿元，其中薄膜沉积设备、混合键合设备收入占比为95.02%、2.38%，PECVD设备收入占比为85.80%。

毛利率阶段承压，持续加大研发投入。2018-2020年公司规模效应尚不明显，综合毛利率稳步提升；随着公司技术水平、产品先进性及市场地位提高，规模效应逐渐显现，2021-2023年公司综合毛利率持续快速提升，2023年达51.01%；2024Q1-3公司综合毛利率为43.59%，同比下滑6.76pct，主要系新产品及新工艺收入占比大幅提升，前期客户验证成本较高。分产品中，2021年PECVD毛利率为42.64%、同比提升7.15pct，主要系公司销售的PF-300T设备包括部分先进制程产品，市场价格较高所致；2021年SACVD毛利率为62.99%，主要系公司完成第二台SACVD设备销售，该设备可用于2.5D/3D先进封装领域；2020年ALD毛利率为87.09%，主要系设备反应腔升级、成本较低。2019-2023年公司净利率持续提升，2023年达25.54%。