茂莱光学战略核心及业务主线分析

依托技术积淀发挥乘数效应，拥抱多元场景。

1、定制化能力是公司战略核心，技术积淀深厚

公司采用“多品种、小批量、定制化”的经营模式，赋能客户从前期开发到后期迭代 的全过程，客户黏性高。依据公司招股书，2021 年，公司在全球生命科学/半导体/ARVR 领域工业级精密光学市场的市占率分别为 3.8%/3.0%/3.0%。 公司定制化能力突出的本质是其深厚的光学设计及加工能力，即能够依据客户给出的 产品参数限制快速完成精密加工，镀膜技术和抛光技术是精密光学的两大核心。

一、镀膜技术：镀膜以蒸发沉积、磁控溅射等方式将氧化物或金属等材料均匀覆盖在 光学元件表层，令光学元件具备增透、抗干扰等特定功能。镀膜技术的演进是光学元件性 能提升以及场景拓展的起点，是令光学走向精密化的技术核心。AR 增透膜是光学元件中最基础、最通用的镀膜技术。增透膜利用了光的干涉原理， 通过控制薄膜的厚度和折射率来实现光线的增透，在光路传输中起到至关重要的基础性功 用。出于准直、放大等光线处理要求，多次传输是精密光学系统光路的普遍特性，因此低 透光率的缺陷会在光路中被一层层放大，成倍影响最终的光效。 增透膜的技术难度主要体现在：对膜材的特定折射率要求和现实中膜材固有物理特性 并不完全匹配。增透膜对薄膜厚度和折射率的要求被特定的物理公式限定，但现实的薄膜 材料折射率由自身属性固定，二者只能近似，无法完全匹配。

理论上，最理想的透过率要求膜材的折射率等于空气折射率和元件折射率乘积的算数 平方根。举例来看，一般空气折射率在 1.0 左右，玻璃折射率在 1.5-1.7 左右，对应折算出 理想膜材的折射率在 1.224/1.304 左右，但实际中并没有精准贴合理论要求的镀膜材料，这 就要求光学企业通过合理的材料选择（同时还需考虑材料成本、机械稳定性等因素）、多层 膜制备等技术手段来无限接近 100%透过率的理想目标。

公司可实现覆盖紫外、可见、红外波段的镀膜设计和制造，具有增透（AR）、高反 （HR）、分光（Beam splitter）、滤光（Filter）等各类产品的镀膜能力。公司拥有一台直径 1.9m 的超大型镀膜机，同时引进德国莱宝高端镀膜机，形成高端生物滤光片的设计和开发 能力。二、抛光技术：通过抛光工艺，可以改善光学元件表面的面形精度、表面粗糙度以及 表面光洁度。半导体设备对于光学零部件表面精度和光洁度有极高要求，而公司通过高面 形超光滑抛光技术，可令光学元件表面粗糙度达到 Ra＜0.3nm，表面面形优于 PV25nm， 表面光洁度可达到 10/5 等级，能够满足 DUV 和 EUV 短波长激光应用场景和激光干涉 测量等应用领域。

2、从技术积淀期步入红利释放期，三大业务主线逐步清晰

公司技术积累已经逐步到位，依托底层通用光学技术，公司逐步走入红利释放周期。 公司生命科学、半导体、AR/VR 三大业务条线逐步清晰，客户群体不断扩张。 在生命科学方面，公司客户包括 ALIGN、华大智造、Bio-Rad、Thermo Fisher 等，其 中，公司为华大智造提供的基因测序光机电模组由公司自主研制，在最大限度提升显微成 像宽阔度的同时，成像效果更为清晰且自动对焦速度快（小于 100ms），能快速启动相机并 锁定分析对象。随着基因测序仪产业链朝本土化演进，以及基因测序成本下降推动需求提 升，公司生命科学相关业务有望继续维持高增。

在半导体业务方面，公司产品可用于半导体 AOI 检测、光刻机等多个场景，客户涵盖 上海微电子、KLA、Camtek 等海内外龙头。 公司掌握光刻机曝光物镜超精密光学元件加工技术，基于该技术生产的光刻机曝光物 镜用光学器件最大口径可达直径 300mm，其面形精度可以实现 PV 小于 30nm，表面光洁 度可达到 20/10，AR 膜性能均匀且能满足强激光照射需求，应用在 365nm 的 I 线光刻 机的曝光物镜中，可实现亚微米量级的曝光线宽，实现光刻机核心元件的国产化批量生 产，助力光刻机零部件率先完成国产替代。 随公司募投项目实施逐步到位，公司有望伴随三大主业的行业景气一同成长，实现体 量的稳步扩张。