联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf

  • 上传者:9*****
  • 时间:2025/11/28
  • 热度:197
  • 0人点赞
  • 举报

联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇。国内规模领先的电子级硅微粉企业,成长性凸显,高阶球粉占比快速提 升。公司硅微粉起家,并进一步拓展至球形氧化铝,形成硅基+铝基多品 类产品布局。目前公司围绕集成电路产业,持续推出包括Low α球形二氧 化硅、Low Df 超细球形二氧化硅、Low α球形氧化铝、氮化物等产品。随 着公司产品结构转型升级和高阶产品登陆,公司利润不断提升。

公司驱动力:产能扩张+产品升级,迎来成长机遇。

硅微粉及球铝领先企业,球硅逐步实现进口替代, HBM关键填料球铝 有望获得更高市场份额。受益于高速基板发展机遇,公司球硅成功打 破海外垄断。公司高导热球形氧化铝产品是热界面关键材料,尤其是 HBM封装材料中的关键填料。公司球铝份额2022年位列中国第三,伴 随氧化铝需求不断扩张以及公司产能扩充,公司有望获得更高市场份 额。

公司产能持续扩张,提供业绩弹性。2025年公司拟发行可转债进行扩 产,用于高性能高速基板用超纯球形粉体材料项目,以及高导热高纯 球形粉体材料项目。伴随公司产能进一步扩张,有望提升订单能力。

聚焦先进技术,高阶产品占比不断提升,客户覆盖全球知名企业。公 司聚焦高端芯片(AI、5G、HPC 等)封装 、异构集成先进封装 (Chiplet、HBM 等)、新一代高频高速覆铜板(M7、M8 等)、高导热 热界面材料等先进技术,高阶产品占比不断上升。公司客户覆盖全球 知名覆铜板、半导体塑封料企业,生益科技为公司股东之一,也是公 司主要客户。

行业驱动力:AI算力爆发,高阶CCL+HBM发展带动需求快速增长。半 导体封装材料、电子电路基板、热界面材料为公司三大核心下游应用领 域,占比9成以上。

覆铜板:高阶CCL加速渗透,超纯球形二氧化硅成为行业主流选择。 AI算力爆发,直接拉动高性能服务器市场的快速扩张,下游硬件对性 能要求不断提高,推动新一代高速覆铜板需求快速提升,尤其是M7以 上级别产品,将拉动上游电子级硅微粉发展。目前Super Ultra Low Loss等高阶CCL正加速渗透,超纯球形二氧化硅成为行业主流选择。

环氧塑封料:先进封装/HBM带动Low-α球硅、Low-α球铝快速发展。 “后摩尔时代”,通过先进封装技术提升芯片性能已成为主要趋势。 Low-α球硅及Low-α球铝作为GMC主要填料,主要应用在集成电路先进 封装中,尤其是HBM中。随着散热要求越高,HBM中的Low-α球铝的 占比会更高。AI算力时代,HBM持续爆发,预计2025年HBM收入将近 翻倍,预计将在2030年前保持33%的年复合增长率,Low-α球铝需求 也将快速增长。

1页 / 共24
联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第1页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第2页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第3页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第4页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第5页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第6页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第7页 联瑞新材公司研究报告:填料艺术家,高阶产品扩产迎成长机遇.pdf第8页
  • 格式:pdf
  • 大小:1.2M
  • 页数:24
  • 价格: 5积分
下载 获取积分

免责声明:本文 / 资料由用户个人上传,平台仅提供信息存储服务,如有侵权请联系删除。

留下你的观点
分享至