清溢光电研究报告：掩模版国产替代中军，平板显示+半导体双轮加速成长.pdf

清溢光电研究报告：掩模版国产替代中军，平板显示+半导体双轮加速成长。深耕掩膜版领域，业绩稳健增长。清溢光电成立于 1997 年，专注高精度掩膜版的生产和技 术创新，2019 年成功在上海证券交易所上市，在掩膜版领域公司始终保持国内领先地位， 公司作为国内规模最大的掩膜版产品和服务提供商之一，具备各类掩膜版产品设计、研发、 制造与销售能力，产品主要涉及平板显示和半导体产业，涵盖了平板显示、触控、柔性电路、 集成电路凸块、集成电路代工、集成电路载板、MicroLED 芯片、微机电等领域掩膜版，凭借 自主创新的技术研发实力、订单的响应快速速度、丰富优质的产品及服务来满足客户需求。 从业绩角度来看，清溢光电 2024 年实现营收 11.12 亿元，同比增长 20.35%，实现归母净 利润 1.7 亿元，同比增长 28.8%，2019-2024 年，公司营收及归母净利润 CAGR 分别达 18.32%，19.66%，实现业绩稳健发展。

面板产能提升+新型显示技术发展驱动掩模版市场增长，本土厂商大有可为。掩膜版是平板 显示面板制造中关键材料，新型显示技术驱动下，掩模版层数需求增加，以 LTPS 背板为例， 传统 LTPS 背板需要 9~13 层掩膜版，结合 IGZO 技术后，LTPO 背板工艺所需掩膜版要增加 至 13~17 层。随着新型技术普及和高分辨率需求增加，掩膜版层数增加，叠加面板产能持 续提升，预计 2030 年全球平板显示光掩膜市场规模达 13.2 亿美元，中国平板显示掩膜版市 场全球占比有望在 2025 年超 60%。当前平板显示掩膜版国产化率仍较低，2023 年 AMOLED/LTPS 等高精度掩膜版国产化率为 12%。清溢光电作为全球前五平板显示掩模版制 造厂商（以销售额计），目前已实现 8.6 代高精度 TFT 用掩膜版、6 代中高精度 AMOLED/LTPS 等掩膜版，及中高端半透膜掩膜版(HTM)产品的量产，同时通过募投项目拟新增 8.6 代线掩 膜版应用场景，提高公司平板显示掩膜版产能及高端产品供应能力，以进一步提升市场份额。

芯片制程微型化+特色工艺多样化+晶圆厂扩产催生半导体掩模版需求。掩模版在半导体芯 片制造中主要用于光刻工艺中的图形传递，受益于芯片制程微型化驱动掩模版层数增加 （130nm 制程节点所需掩膜版层数为 30 层，7nm 达到 70 层）+特色工艺多样化（产品应 用领域广阔且迭代速度快）催生半导体掩模版需求+晶圆厂持续扩产。根据 SEMI 数据，2025 年全球半导体光掩膜版市场规模将达 60 亿美元，其中中国大陆市场规模近 50 亿元。目前中 国半导体掩膜版国产化率为 10%左右，高端掩膜版国产化率仅 3%，国产化率亟待提高。清 溢光电持续推进半导体领域掩模版工艺节点突破，目前已实现 180nm 半导体芯片掩膜版量 产，完成 150nm 客户测试认证与小规模量产，正在推进 130nm-65nm 的 PSM 和 OPC 工艺 的掩膜版开发和 28nm 所需掩膜版工艺开发规划，同时公司拟通过募投加强 250nm-65nm 产品布局，以更快速实现更高制程节点的高端半导体掩膜版的开发及产业化，进一步打破境 外领先厂商垄断格局，提升公司产品竞争力。