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至纯科技（603690）研究报告：湿法设备进入收获季，高纯工艺受益泛半导体。以高纯工艺系统与半导体湿法设备为核心，布局泛半导体设备领域。 1）至纯科技是国内领先的半导体工艺装备和材料供应商。2021年公司 实现营业收入20.84亿元，同比增长49.18%；实现扣非归母净利润1.62 亿元，同比增长46.57%。2）合同负债与存货持续增长。2021年公司合 同负债与存货分别为2.40亿元和11.95亿元，创历史新高，新增订单总额 同比增长64.80%。3）2021年公司研发支出3.02亿元，同比增长101.33%， 研发强度为14.50%，较2020年提高3.74个百分点。公司不断加强研发投 入，增强公司长期竞争力。

深耕半导体湿法设备，全面进入收获季。1）晶圆厂积极扩产，半导 体设备处于景气周期。2021 年全球半导体设备市场规模为 1026 亿美元， 同比增长 44%，预计 2022 年增长 11%，约 1140 亿美元。下游晶圆厂的 资本开支直接决定了半导体设备的销售额，我们按半导体资本开支中设 备投资占 70%~80%比例估算，2022 年全球半导体行业设备端投资规模 约在 1332.8~1523.2 亿美元之间。2）清洗设备是半导体制程核心设备， 集成电路制造设备主要资本开支中，清洗设备占比为 6%。3）全球市场 高度集中。根据 Gartner 数据，2020 年全球半导体清洗设备市场规模为 25.39 亿美元，预计到 2024 年，全球半导体清洗设备市场规模将增至 31.93 亿美元。2020 年全球半导体清洗设备主要被日本 DNS（迪恩士）、 TEL、Lam 和 SEMES（韩国细美事）等企业主导，合计占比约 97.70%， 产业集中度较高。4）公司湿法设备量产，进入高速成长期。2021 年公 司湿法设备营业收入为7.01 亿元，同比增长 221.56%，毛利率为 32.48% 较 2020 年提高 2.63 个百分点；新增订单 11.20 亿元，同比增长 111.32%， 2022 年公司的新增湿法设备的新增订单目标为超过 20 亿元，新增订单 中预估单片设备会占到 60%。