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拓荆科技研究报告：PECVD、SACVD破局者，引领半导体薄膜设备国产化浪潮
- 2022/05/04
- 8403
- 中信建投证券
拓荆科技研究报告：PECVD、SACVD破局者，引领半导体薄膜设备国产化浪潮。海外专家归国创业，专注薄膜沉积设备，产品不断取得突破。公司创始人姜谦2005年从美国回国，在欣欣科技（沈阳）任执行董事，于2010年创立拓荆科技。公司创立十余年来始终专注于半导体薄膜沉积设备业务，PECVD、ALD、SACVD产品不断取得突破。2011年，公司12英寸PECVD作为国家重大专项成果出厂到中芯国际进行验证；2012年，公司推出多反应腔设备PF-300T，次年通过中芯国际验证；
标签： 半导体 拓荆科技 薄膜 PECVD SACVD 半导体薄膜设备
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