"清洗设备" 相关的精读

  • 2025年芯源微研究报告:涂胶显影+清洗设备一体两翼发展,北方华创战略收购,大湿法平台化提速

    • 2025/08/21
    • 482
    • 华源证券

    公司起家于中科院沈阳自动化所,大湿法设备全面布局。沈阳芯源微电子设备股份有限公司成立于2002年,是由中科院沈阳自动化研究所发起创建的国家高新技术企业。

    标签: 芯源微 清洗设备 涂胶显影 北方华创
  • 2025年半导体行业分析:半导体设备国产替代趋势月度跟踪,3月招标以研磨抛光清洗设备为主,Q1国产中标比例显著

    • 2025/05/15
    • 497
    • 广发证券

    半导体设备是半导体产业发展的基础,推动了半导体技术的升级和应用的扩展。半导体行业素有“一代设备、一代工艺、一代产品”的发展特征,光刻、刻蚀、沉积等工艺设备的迭代和工艺组合的创新,支撑了过往摩尔定律的延续和当前前沿制造技术的突破,并最终推动AI等新兴应用应运而生。

    标签: 半导体 半导体设备 清洗设备
  • 2022年至纯科技研究 中国半导体湿法清洗设备巨头公司

    • 2022/09/21
    • 2298
    • 光大证券

    2022年至纯科技研究,中国半导体湿法清洗设备巨头公司。公司的主营业务主要包括半导体制程设备、工艺支持设备的研发和生产销售,以及由此衍生的高纯工艺系统建设、电子材料、部件清洗及晶圆再生等服务。公司的经营战略确立为“关注核心工艺,服务关键制程”,立志成为国内领先的半导体工艺装备、工艺系统及材料提供商。

    标签: 至纯科技 半导体 清洗设备
  • 2022年芯源微研究报告 涂胶显影、清洗设备国产替代快速突破

    • 2022/08/08
    • 1027
    • 华创证券

    2022年芯源微研究报告,涂胶显影、清洗设备国产替代快速突破。公司是国内涂胶显影设备龙头,国产替代背景下产品在前道市场均实现快速突破。公司自2002年成立起专注于半导体设备领域,2004年首台小尺寸涂胶显影设备出厂,2012年获批承担国家02重大专项“300mm晶圆匀胶显影设备研发”项目,2018年首台国产高产能前道涂胶设备出厂并在上海华力进行设备工艺验证,2019年前道用单片式清洗设备出厂并在中芯国际深圳厂进行设备工艺验证。

    标签: 芯源微 涂胶显影 清洗设备
  • 2022年半导体行业发展现状及市场规模分析 盛美上海清洗设备龙头地位显著

    • 2022/05/19
    • 1032
    • 广发证券

    2022年半导体行业发展现状及市场规模分析,盛美上海清洗设备龙头地位显著。半导体专用设备位于产业链的上游,是半导体制造的基石。半导体专用设备泛指用于生产各类半导体产品所需的生产装备。

    标签: 半导体 清洗设备 盛美上海
  • 2022年半导体清洗设备行业发展前景分析 国产清洗设备替代空间较大

    • 2022/05/10
    • 2210
    • 国联证券

    2022年半导体清洗设备行业发展前景分析。2018年全球半导体清洗设备市场规模为34.17亿美元,2019年和2020年受全球半导体行业景气度下行的影响,有所下降,分别为30.49亿美元和25.39亿美元。

    标签: 半导体清洗设备 清洗设备 半导体
  • 国内半导体清洗设备龙头盛美上海研究报告

    • 2022/03/18
    • 918
    • 万联证券

    国内半导体清洗设备龙头盛美上海研究报告。国内少数具有一定国际竞争力的半导体专用设备制造商,主要产品包括半导体清洗设备、半导体电镀设备、先进湿法封装设备和立式炉管设备,产品覆盖前道芯片制造和后道先进封装环节。

    标签: 半导体 清洗设备 盛美上海
  • 盛美上海研究报告:清洗设备龙头,多产品线布局建立平台化优势

    • 2021/11/19
    • 929
    • 招商证券

    盛美上海是我国清洗设备行业龙头,单片清洗设备导入国内外主流晶圆厂,公司基于湿法技术推出电镀和先进封装产品线,外延拓展干法技术布局立式炉管。经过多年深耕,先进封装、电镀和炉管类等产品将在2022-2023年迎来快速放量。

    标签: 清洗设备 半导体 电镀设备 盛美上海
  • 半导体清洗设备行业研究:芯片良率的重要保障,国产替代正当时

    • 2021/11/19
    • 1165
    • 安信证券

    清洗步骤是芯片良率的重要保障,单片成为先进制程清洗设备的主流发展趋势:为了最大限度降低杂质对芯片良率的影响,在实际生产过程中不仅需要确保高效的单次清洗,还需要在几乎所有的制程前后都进行频繁的清洗,清洗贯穿硅片制造、晶圆制造、芯片封装各环节。根据清洗的介质不同,清洗技术可以分为湿法清洗和干法清洗两种,湿法清洗技术是目前市场上的主流清洗方法。根据结构,清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、批式旋转喷淋清洗设备和洗刷器等,单片清洗具备良率高的优点,槽式清洗具备效率高的优点,单片清洗在先进工艺中逐步取代槽式清洗成为主流。根据东京电子的预测,预计未来单片清洗将占据主要份额。

    标签: 半导体 清洗设备 晶圆制造 硅片 半导体设备 芯片
  • 半导体清洗设备行业专题研究与投资策略

    • 2020/09/03
    • 2331
    • 未来智库

    半导体清洗,用于去除芯片生产中产生的各种沾污杂质,是芯片制造中步骤最多的工艺。每一步光刻、刻蚀、沉积、离子注入、CMP(化学机械抛光)后均需要清洗。长久以来,半导体清洗设备没有光刻机、刻蚀机、沉积设备的耀眼光芒,常常被人们所忽视,甚至有人认为,芯片生产中所用的清洗设备,并不具有很高的技术门槛。事实真的如此吗?半导体清洗设备是好的投资赛道吗?国产替代进度又如何?本文将从半导体清洗工艺、清洗设备技术难度、市场空间、竞争格局等角度,来探讨上述问题。

    标签: 半导体 半导体设备 清洗设备
  • 半导体清洗设备行业发展趋势

    • 2023/05/11
    • 779
    • 其他

    半导体清洗设备作为半导体加工领域的重要设备之一,其发展对半导体行业具有重要意义。本文将针对半导体清洗设备行业的发展趋势进行分析和研究。一、市场需求分析2019年,全球半导体工业产值近5000亿美元。在此大环境下,半导体清洗设备市场需求呈现出以下趋势:产业升级需求增强:国内半导体产业快速发展,对清洗设备的升级需求不断增长。新一代半导体工艺的引入:5G、IoT、人工智能等新一代半导体工艺的引入,对清洗设备的技术水平和性能提出更高要求。环保法规对清洗设备的影响:国家环保法规对生产过程中使用的化学物品进行严格排放管理,推动清洗设备向更为环保、节能的方向发展。二、技术趋势分析半导体清洗设备

    标签: 半导体 半导体清洗设备 清洗设备 设备
  • 清洗设备行业研究

    • 2023/05/10
    • 502
    • 其他

    一、综述清洗设备是一种专业设备,主要用于清洗各种工业设备、管道、储罐等,以确保其正常运转和安全使用。随着工业化的发展和环保意识的提高,清洗设备的需求正在逐步增加。据最新的研究数据显示,2020年全球清洗设备市场规模达到了270亿美元,并且预计在未来几年中将以每年3%左右的速度增长。二、市场分析目前,清洗设备市场主要集中在北美、欧洲和亚太地区。其中,北美是最大的市场,占据了全球市场的35%左右。虽然亚太地区的市场份额相对较小,但是随着当地工业化的推进和环保要求的提高,亚太地区的清洗设备市场将有望迎来快速增长。在市场产品的分类上,清洗设备主要可分为高压水洗设备、化学清洗设备和超声波清洗设

    标签: 清洗设备 设备
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