芯源微（688037）研究报告：涂胶显影+清洗设备持续发力，前道市场突破打开成长空间.pdf

芯源微（688037）研究报告：涂胶显影+清洗设备持续发力，前道市场突破打开成长空间。公司是国内涂胶显影设备龙头，正发力清洗设备市场打开远期成长空间。公 司自 2002 年成立起专注于半导体设备领域，2012 年承担国家 02 重大专项 “300mm 晶圆匀胶显影设备研发”项目，2018 年首台国产高产能前道涂胶设备 出厂并在上海华力进行设备工艺验证，2019 年前道用单片式清洗设备出厂并 在中芯国际深圳厂进行设备工艺验证。目前公司在前道涂胶显影和物理清洗领 域都取得突破性进展，其中涂胶显影设备已获得多个前道大客户订单及应用， 下游客户覆盖逻辑、存储、功率器件及其他特种工艺等多家国内厂商，单片物 理清洗设备也取得国内多家 Fab 厂商的批量重复订单。公司目前持续推进前道 涂胶显影设备的工艺验证，同时正在加大前道单片化学清洗设备的研发力度， 未来前道设备放量有望带动公司业绩持续高增长。

行业持续高景气叠加国产替代加速，国产半导体设备厂商份额持续提升。5G、 新能源汽车等领域的蓬勃发展开启全球新一轮半导体景气周期，下游晶圆厂积 极扩产带动半导体设备市场快速增长，SEMI 在 2021 年 12 月预计 2022 年全 球半导体设备市场规模将由 2021 年的 1030 亿美元增长至 1140 亿美元。同时， 成熟制程供不应求带动国内晶圆厂加速扩产，中美贸易摩擦背景下设备国产化 趋势明显。2021 年中国大陆半导体设备销售额同比+58.2%至 296.2 亿美元， 成为全球第一大设备支出地区。芯源微等国产厂商加大产品开拓力度，下游晶 圆厂积极配合设备验证导入，半导体设备国产化加速。随着下游客户的持续扩 产及先进制程设备的研发及验证，国产半导体设备厂商份额有望持续提升。

公司前道涂胶显影+清洗设备双双发力，产品持续迭代打造核心竞争优势。在 前道涂胶显影设备领域，公司 offline 涂胶显影机已实现批量销售，I line 涂胶 显影机已经通过部分客户验证并进入量产销售阶段，KrF 涂胶显影机已经通过 客户 ATP 验收。公司持续推进工艺验证，同时不断进行产品迭代以提升竞争 力，前道涂胶显影机现已具备快速实现国产替代的技术实力。在前道清洗设备 领域，公司单片物理清洗设备 Spin Scrubber 已经达到国际先进水平并成功实 现国产替代，单片化学清洗设备正在加速研发，未来有望复制公司在前道涂胶 显影和单片物理清洗市场的成功路径，快速导入下游晶圆厂客户中。