芯源微研究报告:涂胶显影设备国产替代先锋,清洗+先进封装设备打开成长空间.pdf

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  • 时间:2024/08/22
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芯源微研究报告:涂胶显影设备国产替代先锋,清洗+先进封装设备打开成长空间。国内涂胶显影设备龙头,浸没式机台持续签单。涂胶显影机是唯一与光刻机联机作业的芯片制造核心设备,我们测算,2025 年全球涂胶显影设备市场空间预计为45亿美元,中国大陆涂胶显影设备市场空间预计为18亿美元,其中KrF及以下节点、 ArFi、其他涂胶显影设备市场空间预计为9.4/6.0/2.7亿美元。目前中国大陆涂胶显影设备国产化率仅个位数,公司是国内唯 一可以提供量产型前道涂胶显影机的厂商,现已成功推出offline、I-line、KrF及ArF浸没式等多种型号设备,已陆续获得多个 前道大客户订单及应用,2019-2023年公司光刻工序涂胶显影设备收入及销量CAGR分别为76%、48%,2022年12月公司发布 第三代浸没式高产能涂胶显影机,全面覆盖国内28nm及以上所有光刻节点。近年日本政府加大半导体设备对华出口管制,涂 胶显影设备国产替代有望加速,公司作为国内涂胶显影设备龙头有望优先受益。

布局化学清洗+先进封装设备,成长空间大幅提升。随着技术节点的进步和芯片结构的复杂化,清洗效果对产品最终良率的 影响逐步加大,半导体清洗设备需求量有望持续提升。我们测算,2025年全球半导体清洗设备市场空间预计为60亿美元,中 国大陆半导体清洗设备市场空间预计为24亿美元。公司物理清洗设备国内领先,现已成为国内逻辑、功率器件客户主力量产 机型,近年积极布局前道化学清洗领域,叠加临时键合及解键合设备进入小批量销售阶段,有望打开长期成长空间。

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