中微公司主要产品、订单、产值及营收分析

刻蚀+薄膜+量检测，现覆盖约33%集成电 路设备。

1.产品覆盖：三维发展；现覆盖约33%集成电路设备

目前公司覆盖约33%集成电路设备 市场，包括等离子体刻蚀设备、薄 膜设备以及检测设备。  同时公司继续瞄准世界科技前沿， 持续践行三维发展战略，聚焦集成 电路关键设备领域，扩展在泛半导 体关键设备领域应用并探索其他新 兴领域的机会，推进公司实现高速、 稳定、健康、安全发展。公司坚持 以市场和客户需求为导向，积极应 对复杂形势，继续加大研发投入和 业务开拓力度，推动以研发创新为 驱动的高质量增长策略，抓住重点 客户扩产投资机会，推进订制化、 精细化生产模式，公司在刻蚀设备、 薄膜沉积设备、MOCVD设备等设 备产品研发、市场布局、新业务投 资拓展等诸多方面取得了较大的突 破和进展，产品不断获得海内外客 户的认可，为公司持续健康发展提 供了有力支撑。

CCP刻蚀设备：应用覆盖度完善

公司已有的 CCP 刻蚀产 品已经覆盖28纳米以上 逻辑器件制造的绝大部 分CCP刻蚀应用；在存 储器件制造工艺中，公 司的成熟产品可以覆盖 存储器件制造中的绝大 部分应用。同时公司积 极布局超低温刻蚀技术， 在超低温静电吸盘和新 型刻蚀气体研究上投入 大量资源，积极储备更 高深宽比结构刻蚀的前 卫技术。

CCP刻蚀设备：24H1交付超过700个反应台

公司CCP刻蚀设备中双反应台中 Primo D-RIE、Primo AD-RIE、Primo AD-RIE-e 新增付运量保持高速增 长，2024年上半年付运量超过2023年全年付运量。单反应台CCP刻蚀设备 Primo HDRIE，Primo HDRIEe 和 Primo UD-RIE 付运势头强劲，2024年上半年付运量较2023年全年增加约3倍。截至2024年6月，公司累计生产付运超过3600个CCP刻蚀反应台，2024 年上半年新增付运设备数量创历 史新高。

CCP刻蚀：金属掩膜一体化大马士革刻蚀工艺验证顺利

可调节电极间距的双反应台 CCP 刻蚀机 Primo SD-RIE 在首家先进逻辑客户端针对金属掩膜一体化大马士 革刻蚀工艺的验证进入良率测试阶段，已经进入第二家客户开展现场验证，并与多家客户达成评估意向， 目前实验室开发进展顺利。 Primo SD-RIE 采用双反应台平台设计，在满足严苛工艺指标的同时可以有效的降低生产成本。Primo SD-RIE 具有实时可调电极间距功能，可以在同一刻蚀工艺的不同步骤使用不同的电极间距，能灵活调节 等离子体浓度分布和活性自由基浓度分布。针对复杂膜层结构的刻蚀工艺，Primo SD-RIE 可以通过动态 调节电极间距以及多区调温静电吸盘对的温度来达到最优的刻蚀均匀性。

CCP刻蚀设备：积极储备深宽比结构刻蚀前卫技术

在存储器件制造工艺中，公司的成熟产品可以覆盖存储器件制造中的绝大部分应用。同时，公司针对超高 深宽比刻蚀自主开发的具有大功率400kHz偏压射频的Primo UD-RIE已经在生产线验证出具有刻蚀≥60:1 深宽比结构的量产能力。该设备适用于DRAM和3D NAND器件制造中最关键的高深宽比刻蚀工艺。同时， 公司积极布局超低温刻蚀技术，在超低温静电吸盘和新型刻蚀气体研究上投入大量资源，积极储备更高深 宽比结构刻蚀的前卫技术。同时公司新开发的晶圆边缘 Bevel 刻蚀设备也计划在2024年投入市场验证。

2.订单：24H1新增订单47亿元，同比+40%

公司2023年新增订单金额约83.6亿元，同比增长约32.3%。其中刻蚀设备新增订单约69.5亿元，同比增长 约60.1%；由于公司MOCVD设备已经在蓝绿光LED生产线上占据绝对领先的市占率，受终端市场波动影响， 2023年MOCVD设备订单同比下降约72.2%。 2024年上半年公司新增订单47.0亿元，同比增长约40.3%。其中刻蚀设备新增订单39.4亿元，同比增速约 50.7%；LPCVD上半年新增订单1.68亿元，新产品开始启动放量。公司2024年上半年新增订单中，来自存 储客户的占比较高，先进制程（包括先进逻辑及存储）占比超过70%。 2024年前三季度公司新增订单76.4亿元，同比增长约52.0%。其中刻蚀设备新增订单62.5亿元，同比增长 约54.7%；LPCVD新增订单3.0亿元，新产品开始启动放量；预计2024年累计新增订单将达到110-130亿元。

3.产值：24年前三季度产值94亿元，同比+287%

根据客户订单需求，公司2024年前三季度（1-9月）共生产专用设备1,160腔，同比增长约310%，对应产 值约94.19亿元，同比增长约287%，为公司后续出货及确认收入打下了较好的基础。  为扩充资产规模、增强公司实力以持续做大做强主业，公司产业化建设项目正在顺利推进中。公司位于南 昌的约14万平方米的生产和研发基地已建成完工，并于2023年7月正式投入使用；公司在上海临港的约18 万平方米的生产和研发基地主体建设已基本完成，并于2024年8月正式投入使用；上海临港滴水湖畔约10 万平方米的总部大楼暨研发中心也在顺利建设，将于2025年投入使用。三年之内厂房面积将扩大15倍， 为公司今后十几年大发展奠定坚实的基础。

4.财务：刻蚀+MOCVD设备驱动营收年均增速 >35%

营收年均增速>35%

营收：公司从2012年到2023年超过十年的平均年营业收入增长率超过35%，其中2020-2023年等离子体 刻蚀设备营收年均增长大于50%，MOCVD设备受终端市场波动影响，收入有所下降。2024年上半年度 公司实现营收34.48亿元，同比+36.46%，其中刻蚀设备/MOCVD设备分别实现营收26.98/1.52亿元，同 比+56.68%/-49.04%，新产品LPCVD设备实现首台销售，收入0.28亿元。

盈利能力持续提升

利润：公司2023年归母净利润17.9亿元（其中出售部分拓荆股权税后净收益4.06亿元），较2022年同比 +52.7%；2024年上半年归母净利润5.2亿元，同比-48.48%，扣非净利润4.83亿元，同比只减少6.9%， 主要由于公司显著加大研发力度，以尽快补短板，实现赶超。

综合毛利率稳健提升

毛利率：公司2016-2019年综合毛利率波动主要系产品结构变化，2016-2018年公司MOCVD设备的毛利 率分别为33.82%/38.13%/26.33%，刻蚀设备的毛利率分别为43.13%/38.37%/47.52%，MOCVD营收 占比较高使得综合毛利率较低，后续公司刻蚀设备占比显著提升带来综合毛利率的显著增长。2024H1公 司的毛利率为41.32%，主要系公司根据会计准则2024年新规定将本期产生的预计产品质量保证损失 9,477.58万元计入营业成本。