北方华创的优势在哪？

国产替代逐步深入，平台型公司优势明显。

1.得益于持续的高研发投入，近年来公司高端产品不断取得 突破

半导体设备需要持续的高研发投入。以刻蚀设备为例，刻蚀技术需要在纳米级 别上实现极高的精度和控制，使得公司需要持续投资研发，以应对不断缩小的工艺 节点和新材料的应用，例如从 10 纳米到 7 纳米、5 纳米甚至更小的制程，以及 3D 结构器件的制造。

公司常年保持高研发投入，与海外龙头处于同一水平。公司研发费用从 2018 年以来的 4 亿元，增长至 2023 年的 25 亿元，研发费用率均在 10%以上水平。截至 2023 年底，公司已累计申请专利 7,900 余件，获得授权专利 4,700 余件。海外设 备龙头应用材料，泛林半导体近年来研发费率均在 10%左右，公司研发费用率与海 外龙头处于同一水平。

持续的高研发投入下，公司不断取得产品突破。近年来，公司发布了多款新品， 包括 12 英寸去胶机 ACE i300，12 英寸电容耦合等离子体介质刻蚀机 Accura LX， 等离子体增强氮化硅原子层沉积立式炉等。其中，12 英寸电容耦合等离子体介质刻 蚀机Accura LX主要覆盖逻辑领域多个技术节点中以AIO （双大马士革刻蚀工艺）、 Contact （接触孔）为代表的关键介质刻蚀制程，并可扩展到存储领域的 CMOS 相 关制程，适用于 Low-K（低介电常数）介质及常规介质材料的刻蚀工艺。

2.先进制程工艺之间协同性更高，平台化公司优势明显

在协同性强的工艺使用同一家厂商的设备，对晶圆厂的好处在于： 1）系统兼容性与集成度更高。同一家公司的设备通常在设计时就考虑到了系统 的兼容性，比如数据接口、软件平台、控制系统等，能够无缝连接，减少不 必要的调试和适配时间。设备之间的参数、协议和工艺流程更为统一，数据 共享和信息传递更加顺畅，能提高整体生产线的稳定性和效率。例如，清洗 设备和刻蚀设备来自同一家供应商时，清洗过程中的化学残留控制更好，与 刻蚀设备的兼容性更高，减少交叉污染的风险。 2）售后服务与技术支持更集中。使用同一家公司的设备，只需要对接一个服务 团队，沟通和协调更为方便，不会出现不同设备供应商互相推责的情况。技术支持团队对整个生产线的设备都非常熟悉，能够更快速准确地诊断问题， 减少故障排查时间。供应商能够提供一揽子的维护计划和备件管理，避免多 供应商服务的复杂性和响应延迟。

3）维护与管理成本降低。因为所有设备都来自同一家供应商，维护和维修所需 的备件种类和库存量更少，降低了库存成本。设备管理更加统一，可以集中 培训维护人员，提高维护效率，减少人员培训成本。统一的设备监控和管理 系统使得生产线的管理更加简单，有效减少因管理复杂性带来的额外成本。 4）更好的生产线优化与升级。设备供应商能够对生产线的整体工艺提供一体化 的优化方案和升级计划，提高生产效率和产品质量。新设备或新技术的引入 和集成更加方便，因为所有设备都在同一平台上运行，避免了多供应商系统 集成的复杂性。供应商可以根据生产线的整体情况，定制优化方案，实现设 备和工艺的最佳配合。 5）设备一致性和良品率提高。同一品牌的设备在制造工艺、参数设定和操作界 面上都更为一致，有助于减少生产中的变量，提升良品率。工艺参数的设定 和复制更加简单，不同设备之间的工艺一致性更好，减少因设备差异带来的 波动。

公司正不断扩展在各下游市场的核心环节布局。公司的设备可供在集成电路、 先进封装、功率半导体、化合物半导体、LED、光伏六大下游的客户使用： 在集成电路领域，针对 Logic、DRAM、3D NAND、3D IC 等不同的芯片技术， 公司可提供等离子刻蚀机、PVD、CVD、ALD、炉管和清洗等设备，并均已进入主 流芯片工厂； 在先进封装领域，针对 Flip chip Bumping、Fan-Out、WLCSP、2.5D/3D TSV 等技术，北方华创为客户量身打造的刻蚀设备、沉积设备、炉管设备等已经实现了 在主流先进封装企业的批量生产，并不断获得客户的重复采购订单。 在功率半导体领域，公司自主研发的刻蚀机、物理气相沉积设备、立式炉设备、 清洗机、单/ 多片式硅外延设备以及卧式氧化/ 扩散炉已获得多家功率器件客户的认 可和批量采购。 在化合物半导体领域（GaN、SiC、GaAs、InP 等），公司可提供长晶炉、干 法刻蚀设备、薄膜设备、炉管设备、清洗设备，为客户提供全面的工艺解决方案。 在半导体照明领域，北方华创的 ICP 刻蚀机、PECVD、Sputter 等均为行业标 杆产品，可应用于新一代 Mini-LED 和 Micro-LED 制程。北方华创在 LED 领域持续 研发，凭借优越的产品性能以及创新的技术理念，致力于成为客户信赖的设备解决 方案提供商。 在光伏电池制造领域，北方华创可提供三大类共 20 余款设备，包括卧式氧化/ 扩散炉、PECVD、LPCVD 等设备。设备技术指标及工艺性能均表现突出，具有高 产出、高效能、高稳定性的特点，并可灵活应用于典型量产工艺及 IBC、HJT/HIT 等多种新兴高效电池生产工艺中。