光刻胶专题分析：光刻环节核心，厚积薄发，国产替代.pdf
- 上传者：B*******
- 时间：2021/08/01
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光刻胶:半导体光刻环节之核心，必不可少。光刻胶，是一种感光材料，在光的照射下发生化学反应，利用溶解度的变化将光学的信号转化为化学信号，通过曝光、显影、及刻蚀等一系列步骤实现电路从掩模转移到基片因此光刻胶的性能决定了集成电路的集成度，进而决定了芯片的运行速度功耗等关键参数，所以系集成电路制造工艺中最关键的材料。
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