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拓荆科技研究报告：24Q1机台出货金额同比高增长，多品类布局构筑长期发展动力。2023全年公司收入再创历史新高，利润同比高增长。2023年收入27亿元， 同比+58.6%，主要系客户需求增长，各产品快速放量；毛利率51%，同比 +1.7pcts；归母净利润6.6亿元，同比+79.8%；扣非净利润3.12亿元，同比 +75.3%，非经常损益主要为政府补助3.3亿元、公允价值损益1亿元、所得 税影响为-0.7亿元；剔除股份支付费用后2023年扣非净利润5.36亿元，同 比+168%。公司利润同比高增长，主要系产品结构优化，规模效应显现。

新品验收节奏拖累24Q1收入增速，研发投入和期间费用增多导致利润同比下滑。24Q1收入4.7亿元，同比+17.3%/环比-53%；毛利率47.3%，同比-2.5pcts/环比-4.8pcts；归母净利润0.1亿元，同比-81%/环比-97%；扣非净 利润亏损0.44亿元，同比减少0.64亿元/环比减少1.8亿元，非经常损益主 要为近6000万的政府补助；扣非净利率-9.4%，同比减少14.2pcts/环比减少 23pcts。公司24Q1收入同比增速较慢，主要系24Q1验收机台主要为新品， 新品验收周期长于成熟机台，收入确认有一定延后；24Q1研发投入1.53亿 元，同比+78%，叠加出货量提升带来人力成本提高，进而影响利润表现。

当前在手订单保持饱满，24Q1机台出货金额同比高增长。公司在手订单持续 增长，截至2023年底，公司在手订单（不含DEMO）为64.23亿元，同比 增长40%；截至2023年底，公司存货为46亿元，其中发出商品为19.3亿 元，截至24Q1末，存货进一步增长至56亿元；截至24Q1末，公司合同负 债为13.86亿元，较2023年底略有增长。24Q1公司收入受订单确认节奏影 响，但单季出货金额同比增长超过130%，并指引2024年机台反应腔出货数 量超1000个，对比2023年出货460余个实现翻倍以上增长。

薄膜沉积设备多品类快速放量，混合键合设备已贡献收入。1）PECVD设备： 2023全年收入23.2亿元，同比+48.5%，首台PECVD LokⅡ工艺设备、ADC II工艺设备通过验收；NF-300H型号设备已实现产业化应用，可以沉积Thick TEOS等介质薄膜；2）ALD设备：2023全年收入同比大幅增长，Thermal ALD 设备通过客户端验证；3）沟槽沉积设备：SACVD设备持续拓展应用领域， 收入同比增长；HDPCVD设备通过客户端验证，实现首台产业化应用并获得 批量重复订单；4）混合键合设备：首台晶圆-晶圆键合设备通过客户端验证， 复购设备再次通过验证，芯片-晶圆键合表面预处理设备通过客户端验证。两 类混合键合设备均实现产业化应用，并为国内首台用于量产的同类型产品。 公司2023年混合键合设备实现3台销售，收入为6430万元。

国内头部Fab采招加速叠加先进制程产能开出，国内设备厂商2024年收入和签单有望同比高增长。国内持续增加荷兰进口光刻机金额，2024年国内头 部Fab扩产和设备采招有望边际加速。24M1/2/3国内从荷兰进口光刻机金额为6.66/3.9/11亿美元，同比+522%/106%/330%；ASP同比 +180%/175%/193%。同时2024年国内扩产偏先进制程和偏高端存储产能， 例如近期上海华力康桥二期产线启动，上海建工四建和信息产业第十一设计 院共同参与厂房及配套设施建设项目，中标价为98.81亿元。24Q1国内设备 厂商收入同比表现分化，但新签订单均较为饱满，伴随半导体设备行业景气 度提升，国内头部产线采招加速有望带来国内设备公司签单边际提速。伴随 订单逐步确认，我们看好2024-2025年国内设备厂商收入高增长态势。