掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf

  • 上传者:罗***
  • 时间:2024/03/08
  • 热度:675
  • 0人点赞
  • 举报

掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为。掩膜版行业市场规模广阔,在半导体材料板块中仅次于硅片的第二大 赛道:全球范围来看,半导体掩膜版市场规模稳步增长,2018 年达 40.4 亿美 元,2022 年增长至 49.0 亿美元,2018-2022 年市场规模 CAGR 近 5%。按制程 来看,2022 年全球半导体掩膜版出货结构主要集中在 28nm 以上成熟制程领 域,2022 年 130nm 以上、28-90nm、28nm 以下制程市场份额占比分别为 54%、 33%、13%。

掩膜版逆周期属性可熨平半导体周期,保持赛道平稳增长:大部分半导 体材料需求周期紧跟晶圆厂稼动率周期,因此在半导体需求下行周期时,半导 体材料普遍出现量价齐跌状态。掩膜版作为光刻环节非耗材产品,主要挂钩下 游新产品开发需求,而非产品需求。当晶圆厂需求低迷时,空出的产能促进新 芯片设定方案的加速,芯片设计公司将通过设计新产品刺激市场,提升销量, 进而带来对掩膜版的增量需求。

第三方掩膜版厂将承接更多 28nm 及以上的成熟制程订单:对于 28nm 以下先进制程掩膜版,由于技术难度高、生产工艺复杂等问题,晶圆厂所需掩 膜版主要依靠内部 Inhouse 工厂,如台积电、英特尔、中芯国际 Inhouse 厂分 别可以量产制程 3nm、7nm、14nm 半导体掩模板。对于成熟制程而言,第三 方掩膜版厂商能充分发挥技术专业化、规模化优势,具有更显著的规模经济效 益,因此在结合降成本及市场效率的情况下,晶圆厂一般更倾向于向独立第三 方掩膜版厂商采购成熟制程掩膜版。

1页 / 共31
掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第1页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第2页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第3页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第4页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第5页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第6页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第7页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第8页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第9页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第10页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第11页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第12页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第13页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第14页 掩膜版行业研究报告:光刻环节关键材料,国产掩膜版大有可为.pdf第15页
  • 格式:pdf
  • 大小:2.5M
  • 页数:31
  • 价格: 6积分
下载 获取积分

免责声明:本文 / 资料由用户个人上传,平台仅提供信息存储服务,如有侵权请联系删除。

留下你的观点
分享至