掩膜版行业研究报告：光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为.pdf

上传者：王**
时间：2023/11/06
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掩膜版行业研究报告：光刻蓝本亟待突破，国产替代大有可为。掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，按照制造材料可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（菲林、凸版、干版），按照下游应用领域可以主要分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版、电路板掩膜版。掩模版对于光刻工艺的重要性不弱于光刻机、光刻胶。在集成电路领域，光掩模的功能类似于传统相机的“底片”，在光刻机、光刻胶的配合下，将光掩模上已设计好的图案，通过曝光和显影等工序转移到衬底的光刻胶上，进行图像复制，从而实现批量生产。国内掩膜版厂商的上游材料以及设备严重依赖日韩厂商。生产制造方面，掩膜版的制造工艺复杂，主要的生产工艺包括：光刻、显影、蚀刻、脱膜以及清洗。

全球竞争格局：海外寡头垄断，国产厂商持续发力。1）细分市场规模：掩膜版的主要应用领域为半导体与平板显示。半导体领域，2022 年全球光掩模版市场规模大约为 58.11 亿美元；平板显示领域，根据 Omdia 数据，全球平板显示掩膜版 2022 年市场规模达 1026 亿日元。2）竞争格局：据 SEMI 的数据统计，2019 年全球芯片掩膜版市场中，65%的市场份额由晶圆厂自行配套的掩膜版工厂占据，剩余 35%的份额则被独立第三方掩膜工厂瓜分。3）国产化进程：半导体领域，国产厂商暂时集中在芯片封测用掩膜版以及 100nm 节点以上的晶圆制造用掩膜版，技术水平与国际领先的企业有较大差距；平板显示领域，G11 代线的掩膜版产品已有国产厂商突破垄断，精度方面离国际最高水平还稍有差距。

海外龙头解析：掩膜版龙头发展路径。掩膜版龙头企业的崛起都有规律可循，海外龙头背后的发展共性都是企业成长的必经之路。通过复盘三大海外龙头的成长轨迹，我们总结了龙头公司掩膜版业务的发展思路供国内公司参考： 1）与晶圆厂共同研发新产品；2）建立全球化的生产基地，重视中国市场机遇；3）持续并购整合建立全球销售网络，加快研发速度。 ➢ 国产替代机遇：随着我国半导体产业占全球比重的逐步提升，我国半导体掩膜版市场规模也逐步扩大。目前国内厂商已量产 250nm 工艺节点的 6 英寸和 8 英寸半导体芯片用掩膜版，正在推进 180nm 半导体芯片用掩膜版的客户测试认证，同步开展 130nm-65nm 半导体芯片用掩膜版的工艺研发和 28nm 半导体芯片所需的掩膜版工艺开发规划，逐步缩小与海外龙头企业的技术差距，加速国产替代进度。我们认为国内掩膜版行业的景气度有望持续旺盛，国产厂商有望迎来业绩的高速增长。