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拓荆科技（688072）研究报告：薄膜沉积设备龙头，引领国产替代大潮崛起。国内半导体薄膜沉积设备龙头，收入规模快速成长 公司深耕薄膜沉积设备行业十二载，主要产品为 PECVD 设备、ALD 设备和 SACVD 设备。公司收入规模快速成长，2021 年实现营收 7.58 亿元（同比 +73.99%），22Q1 营收 1.08 亿元（同比+86.21%），呈现边际提速的趋势。22Q1 公司存货余额 12.94 亿元，较 2021 年末上涨 33.50%，已发出未确认收入商品 占比较高，此外， 2022Q1 公司合同负债达 7.8 亿元，较 2021 年末增长 2.92 亿 元，预示在手订单充裕，公司未来成长性/确定性兼备。

薄膜沉积设备国产化率仍较低，国产替代空间广阔

薄膜沉积设备同光刻机、刻蚀机并称晶圆制造三大核心设备，单机价值高/市场 空间大，根据 Maximize Market Research 数据，2020 年全球半导体薄膜设备市 场空间为 172 亿美元，预计 2025 年达到 340 亿美元。市场格局方面，全球薄膜 沉积设备由 AMAT/LAM/TEL 等海外企业寡头垄断，根据我们估算 2021 年国产 化率不足 10%，国内拓荆/华创/中微/盛美等企业在各细分领域均有布局，在国 内晶圆厂持续扩产推动下，核心企业将充分受益国产化大潮。

产品/客户优势尽显，扩产/研发双管齐下，成长动能充沛

公司客户资源优质，与中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、 燕东微电子等国内主流晶圆厂长期深度合作；设备工艺覆盖面广，核心产品 PECVD 设备已适配 180-14nm 逻辑芯片、19/17nmDRAM 及 64/128 层 FLASH 制造工艺需求，关键性能参数比肩国际龙头；同时，公司募投 10 亿用于扩大产 能以及进一步加码先进制程 PECVD/SACVD/ALD 设备的研发，维持自身在先 进制程技术的优势，有望引领薄膜沉积设备国产化持续崛起。