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拓荆科技（688072）研究报告：国内PECVD设备龙头，受益国产替代加速。国内 PECVD 龙头厂商，国际化研发团队助力发展。公司 2010 年成立，自成立至今 一直专注于半导体薄膜沉积设备业务，主要产品包括 PECVD 设备、ALD 设备和 SACVD 设备三个系列，目前公司是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设 备和 SACVD 设备厂商。公司的产品已适配国内最先进的 28/14nm 逻辑芯片、 19/17nm DRAM 芯片和 64/128 层 3D NAND FLASH 晶圆制造产线。以姜谦、吕光 泉前后两任董事长为核心的五名国家级高层次专家组建起一支国际化的技术团队， 研发经验和产线调试经验丰富，助力公司长期发展。

半导体设备需求旺盛，技术升级拉动薄膜沉积设备投资提升。受益新能源汽车、5G 手机、人工智能和可穿戴设备等新技术、新产品的发展，据 WSTS 预测，全球半导 体产品市场规模将在 2022 年增长至 6015 亿美元，同比增长 9%，设备投资需求亦 将进一步提升。同时，逻辑芯片结构复杂化推动沉积设备用量提升，以中芯国际 180nm8 寸产线和 90nm12 寸产线为例，每万片月产能所需的 CVD 设备、PVD 设 备分别增加 3 倍和 4 倍左右。存储芯片方面，3D NAND 相比 2D NAND 薄膜沉积设 备投资占比由 18%提升至 26%。

深耕 PECVD 领域，同时布局 SACVD、ALD 设备，引领 CVD/ALD 设备国产化。 薄膜沉积设备占晶圆制造设备投资比例约 22%；薄膜沉积设备中，PECVD 设备占 比约 33%，是最主要薄膜沉积设备类型，ALD 在其中占比约 11%，加上 SACVD 设 备，拓荆科技约可覆盖近半的薄膜沉积设备需求。从国产化角度看，目前薄膜沉积 设备国产化率仅约 5.5%（拓荆科技占据 3.8%，主要供应 PECVD 设备，北方华创 占据 1.7%，主要供应 PVD 设备），未来仍有广阔国产化空间。拓荆客户群体包括 中芯国际、长江存储、华虹集团、ICRD 等主流大客户，受益大客户产能建设和对 SACVD、ALD 设备的验证通过，公司份额有望快速提升。同时，公司也通过募投项 目进一步加强 28nm 以下产品竞争力，并积极开展 10nm 以下产品开发。