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中微公司（688012）研究报告：如何看待中微公司市值成长空间？海外半导体设备行业竞争格局稳定，核心设备公司估值比十分稳定，可做国内参考 半导体核心设备为光刻机、刻蚀机和薄膜沉积设备，回顾海外半导体设备行业，阿斯麦、 拉姆研究与美国应材在相应领域都取得了垄断性的地位，后两者则保持着稳定的竞争状 态。我们从市值比，估值比与营收比三个维度对这三家公司做了比较研究，以此来思考 中国半导体设备公司的发展与估值。

中微公司市值较全球龙头公司拉姆研究、国内龙头公司北方华创低估，提升空间大

纵观海外设备行业发展，我们认为中国大陆设备企业竞争格局会复制海外市场格局，估 值也可参考海外市场。目前拉姆研究/应用材料市值为 0.64，中微公司/北方华创估值比只 有 0.46，后续中微公司的基本面驱动因素更强，市值具有较大提升空间。

中微公司竞争优势明显，产品先精后全，在介质刻蚀领域已达到世界领先水平，新签订单大增，财务表现亮眼。介质刻蚀与硅刻蚀同样重要，公司也积极突破

中微公司拥有差异化的产品优势及产品迭代能力，优质的客户资源及快速的客户响应能 力，2021 年新签订单大增 90.5%达到 41.3 亿元，21Q4 刻蚀毛利率达到毛利率 45.3%，环 比+1.9pcts；MOCVD 设备的毛利率达到 33.77%，较 2020 年的 18.65%有大幅度提升。 2022 年 3 月 10 日公司发布股权激励草案，以 2021 年营业收入作为基数，2022-2025 年 分别设置了不低于 20%、45%、70%、100%的营业收入增长率考核目标，彰显管理层对 公司发展的信心。

我们认为介质刻蚀和硅刻蚀在制程中都十分重要。公开资料显示硅刻蚀和介质刻蚀基本 平分干法刻蚀市场。在市场容量相当的情况下，公司在介质刻蚀领域已经达到世界领先 厂商的水平，FAB 认可度高，后续国产替代空间大，能占据大部分市场份额。