中微公司（688012）研究报告：半导体设备龙头，内生外延迈向新征程.pdf
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- 时间：2022/02/23
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公司是刻蚀和 MOCVD 设备龙头厂商，正通过内生外延加速平台化布局。公 司 2004 年由尹志尧博士等人回国创立，2007 年首台 CCP 刻蚀设备研制成功，2012 年首台 MOCVD 设备研制成功，目前产品已具备国际竞争力，公司 ICP刻蚀设备已趋于成熟，截至 2021 年 6 月已交付 100 腔，Mini LED 用 MOCVD设备已获得大批量订单，产品品类拓展叠加市场份额提升，公司长期发展向好。目前公司正加速平台化布局，现已组建团队开发 LPCVD 设备和 EPI 设备，同时通过外延式发展方式持有拓荆科技、睿励仪器、理想万里晖、山东天岳、德龙激光等公司股权，与德国 DAS 公司战略合作以开拓半导体行业尾气处理设备领域。公司技术积累深厚，正逐步打造成为国际一流的平台型设备企业。
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