先进封装技术类型、资本开支、营收及技术梳理

先进封装技术类型、资本开支、营收及技术梳理

最佳答案 匿名用户编辑于2024/10/10 09:14

先进封装技术多样,目的是提高集成度和性能并降低成本。

先进封装技术包括FO(扇出型封装)、WLCSP(晶圆级芯片规模封装)、FCCSP(倒装芯片级封装)、FCBGA(倒装芯片球栅阵列封装)、2.5D封装、3D封装、ED (芯片封装)、SiP(系统级封装)等。相比传统封装技术,先进封装由有线变为无线,从芯片级封装拓展至晶圆级封装,从单芯片封装拓展至多芯片封装,从2D封装拓展至2.5D/3D封装,从而缩小封装体积、增加I/O数、提高集成度和性能,并降低成本。Chiplet(芯粒/小芯片)是后摩尔时代的重要路径,相比SoC,具有更高的灵活性、可扩展性和模块化,根据martket.us的预测,全球Chiplet市场规模将由2023年的31亿美元增长至2033年的1070亿美元,CAGR约42.5%。

2023年先进封装领域资本开支为99亿美元。根据Yole的数据,2023年先进封装领域资本开支为99亿美元,主要来自台积电、英特尔、三星、SK海力士等半导体大厂,以及安靠、日月光、长电科技等头部OSAT厂商。Yole预计2024年先进封装领域资本开支将增加到115亿美元。 先进封装约占IDM/晶圆代工厂2023年资本开支的9%;约占头部OSAT资本开支的41%。

2023-2029年全球先进封装营收CAGR为11%。根据Yole的预测,2023年全球先进封装营收为378亿美元,占半导体封装市场的44%,预计2024年将增长13%至425亿美元,2029年增长至695亿美元,CAGR达11%,其中2.5D/3D封装增速最快。从2019-2029年先进封装I/O间距和RDL线宽/线距的技术路线来看,呈缩小趋势。其中锡球I/O间距在300μm不变,RDL线宽/线距从>5/5μm缩小至>2/2μm,微凸块间距由80-40μm缩小至50-40μm。混合键合(Hybrid Bonding)使金属-金属、氧化物-氧化物面对面堆叠成为可能,可使凸块间距小于10μm,用在W2W(wafer-to-wafer)和D2W(die-to-wafer)中。

预计2023-2029年全球高端封装市场规模CAGR达37%。根据Yole的预测,高端封装市场规模将从2023年的43亿美元增长至2029年的280亿美元,CAGR达37%;高端封装数量将从2023年的6.27亿增长至2029年的56亿,CAGR达44%。Ø 按终端市场来看,2023年最大的应用是通讯/基础设施,占比超过67%;2023-2029年CAGR最高的应用是移动/消费电子,达50%。Ø 按技术来看,3D堆叠存储(包括HBM、3DS、3D NAND、CBA DRAM)占比最大,预计2029年贡献超过70%;2023-2029年增速较高的平台是CBA(CMOS键合阵列) DRAM、3D SoC、有源Si Interposer、3D NAND堆栈和嵌入式Si桥。

先进封装技术:FO(Fan-Out,扇出型封装):基于晶圆重构技术,将切割后的好芯片重新放置在载板上,芯片间距离视需求而定,布线可在芯片内和芯片外,可提供更多的I/O数量,包括晶圆级扇出型 (Fan-out Wafer Level Packaging,FOWLP)和面板级扇出型 (Fan-out Panel Level Packaging, FOPLP)。与之相对的FI(Fan-In,扇入型封装)布线均在芯片尺寸内。

WLCSP(Wafer Level Chip Scale Packaging,晶圆级芯片规模封装):将晶圆级封装(WLP)和芯片尺寸封装(CSP)合为一体的封装技术。WLP是直接在晶圆上进行大部分或全部的封装测试程序,之后再进行切割;与之相对的传统工艺是将单个芯片从晶圆上切割后再进行封装测试。CSP是指整个package的面积相比于silicon总面积不超过120%的封装技术。

FC(Flip Chip,倒装芯片):将芯片翻转使电气面朝下,通过凸点与基板连接;BGA(Ball Grid Array,球栅阵列):用焊球代替传统周边引脚。 l FCCSP(Flip Chip Chip Scale Package,倒装芯片级封装)与FCBGA(Flip Chip Ball Grid Array,倒装芯片球栅阵列封装)相比,除整体尺寸更小外,在外形上没有明显差异,

2.5D封装:将多个芯片通过中介层(Interposer)连接,提高XY面密度,可以在保持性能的同时降低成本、提高良率,具有更好的灵活性和可扩展性。3D封装:直接在芯片上打孔和布线,实现Z方向的芯片堆叠和连接。目前在存储领域应用较多。TSV(Through Silicon Via,硅通孔)技术可以实现硅片内部垂直电互联,是实现2.5D、3D先进封装的关键技术之一。相比平面互连,TSV可减小互连长度和信号延迟,降低寄生电容和电感,实现芯片间低功耗和高速通信。

ED (Embedded Die,嵌入式芯片封装):将芯片嵌入基板内部,而非安装在基板表面上,可以缩短电路长度,提高电气性能,减小封装尺寸。 l 根据martket.us的预测,ED封装市场规模将由2023年的0.95亿美元增长至2033年的6.09亿美元,CAGR约20%。

SiP(System in Package,系统级封装):根据国际半导体路线组 织(ITRS)的定义,SiP是将多个具有不同功能的有源电子元件与可 选无源器件,以及诸如MEMS或者光学器件等其他器件组装到一起,实 现一定功能的单个标准封装件,形成一个系统或者子系统。 SiP封装内部可能用到倒装芯片、芯片堆叠、晶圆级封装等多种封 装技术。

参考报告

半导体行业专题报告:先进封装超越摩尔定律,晶圆厂和封测厂齐发力.pdf

半导体行业专题报告:先进封装超越摩尔定律,晶圆厂和封测厂齐发力。后摩尔时代,先进封装获重视。一方面,当前先进芯片发展面临“存储墙”“面积墙”“功耗墙”和“功能墙”,仅依靠先进制程无法解决,先进封装成为重要助力。另一方,随着工艺制程进入10nm以下,芯片设计成本快速提高。根据IBS的数据,16nm工艺的芯片设计成本为1.06亿美元,5nm增至5.42亿美元。同时,由于先进制程越来越接近物理极限,摩尔定律明显放缓,侧重封装技术的MorethanMoore路径越来越被重视。根据Yole的预测,2023年全...

查看详情
相关报告
我来回答