半导体设备行业专题报告：刻蚀机走在国产替代前列.pdf
- 上传者：J****
- 时间：2020/03/27
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光刻机、 刻蚀机和薄膜沉积 设备是芯片制造过程 中的三大核心设备 ，如果把芯片比作一 幅平面雕刻作品，那 么光刻机是打草 稿的画 笔，刻蚀机是雕 刻刀，沉积的薄 膜则是构成作品 的材料 。光刻的精度直接决定了元器件刻画的尺寸，刻蚀和薄膜沉积 的精度则决定了光刻的尺寸 能否实际加工，因此 光刻、刻蚀和薄膜 沉积设备是芯片加工 过程中最重要的三 类主设备， 价值占 前道设备的近 70%。
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