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"半导体清洗设备行业分析" 相关的文档

  • 半导体清洗设备行业之盛美上海(688082)深度研究报告.pdf

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    • 2022/01/13
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    • 民生证券

    盛美上海:国产半导体清洗设备龙头。通过差异化的开发,公司于湿法清洗领域获得了突破,同时在电镀、抛铜设备上崭露头角。公司近三年的营收增速迅猛,从2017年的2.54亿元增长到2020年的10.07亿元,年复合增长率高达58%。凭借先进的自研产品,公司与大量国际知名企业建立了密切的合作关系,华虹集团、长江存储、SK海力士、长鑫存储等企业都是公司的长期伙伴。21年来在多位海外新客户取得订单。

    标签: 盛美上海 清洗设备 半导体清洗设备 电镀设备
  • 半导体清洗设备行业研究:芯片良率的重要保障,国产替代正当时.pdf

    • 3积分
    • 2021/11/18
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    • 安信证券

    清洗步骤是芯片良率的重要保障,单片成为先进制程清洗设备的主流发展趋势:为了最大限度降低杂质对芯片良率的影响,在实际生产过程中不仅需要确保高效的单次清洗,还需要在几乎所有的制程前后都进行频繁的清洗,清洗贯穿硅片制造、晶圆制造、芯片封装各环节。根据清洗的介质不同,清洗技术可以分为湿法清洗和干法清洗两种,湿法清洗技术是目前市场上的主流清洗方法。根据结构,清洗设备主要包括单片清洗设备、槽式清洗设备、批式旋转喷淋清洗设备和洗刷器等,单片清洗具备良率高的优点,槽式清洗具备效率高的优点,单片清洗在先进工艺中逐步取代槽式清洗成为主流。根据东京电子的预测,预计未来单片清洗将占据主要份额。

    标签: 清洗设备 半导体设备 芯片
  • 半导体清洗设备行业研究

    • 3积分
    • 2021/10/27
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    • 其他

    对半导体清洗设备行业进行了研究,有别于市场研报的内容为:晶圆盒清洗机的介绍

    标签: 半导体 清洗设备 清洗机
  • 半导体清洗设备产业研究:行业进入黄金发展期,国内企业实力强劲.pdf

    • 3积分
    • 2021/06/29
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    • 长城证券

    清洗工序是贯穿半导体产业链的重要工艺环节,是提高芯片良率的重要步骤。随着半导体制造技术不断进步,半导体器件集成度不断提高,芯片工艺节点在不断缩小,光刻、刻蚀、沉积等重复性工序步骤以倍速增长,在实现相同芯片制造产能的情况下,对清洗设备的需求量也将快速增长,半导体清洗设备重要性不断提升。全球半导体清洗设备市场高度集中,其中迪恩士是全球半导体清洗设备龙头企业,市占率达40%以上。公司业务覆盖面较广泛,包括半导体制造设备、图形艺术设备、显示生产设备和涂装、印制电路板相关设备。国内业务涉及半导体清洗设备的公司除盛美股份外,还包括北方华创、至纯科技以及芯源微,各公司专注的领域有所差异。

    标签: 半导体设备 半导体清洗设备 机械设备
  • 半导体清洗设备行业专题研究与投资策略.pdf

    • 3积分
    • 2020/08/31
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    半导体清洗对于芯片制造意义重大,如果清洗不达要求,残留的沾污杂质将导致芯片失效。半导体清洗贯穿硅片制造、晶圆制造、封装三大环节。

    标签: 半导体 清洗设备 半导体设备
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